光纤纳米尖端的加工方法技术

一种光纤纳米尖端的加工方法属于微细加工技术领域。本发明专利技术采用光纤端面微细加工方法在光纤端面喷涂光刻胶形成均匀胶层并完成前烘后，用带自对准的掩膜板对光刻胶进行曝光、显影，然后沉积用作氢氟酸腐蚀掩膜的掩膜层，将沉积掩膜后的光纤端部浸入氢氟酸腐蚀液，利用湿法腐蚀的钻蚀效应得到光纤端部纳米尖端结构。本发明专利技术具有实质性特点和显著进步，本发明专利技术腐蚀出的尖端尺寸与锥度仅仅取决于钻蚀，对湿法腐蚀而言，钻蚀的形貌主要决定于待腐蚀的材料，因此该光纤端部纳米尖端的制备方法不仅受环境因素的影响小，而且不同模式的光纤腐蚀得到的尖端形貌一致性好。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及的是一种微细加工方法，特别是一种，属于微细加工

技术介绍
近场光学显微镜是随着微小尺度的检测要求而发展起来的，它的空间分辨率很高，应用领域很广，最突出的应用是单分字探测。要实现高的分辨率，则显微镜探针的尺寸必须小于所用光的波长，因此如何制备光纤纳米尺度的尖端是近场光学显微镜和光纤纳米传感器的基础。目前报道的有关光纤端部纳米尖端的制备方法有两种第一种方法是利用激光加热光纤端部并同时加以拉伸，通过对加热和拉伸力度的控制来获得纳米尺度的光纤尖端。该技术重复性好，但其涉及到的拉伸装置相当昂贵。另一种制备方法是湿法腐蚀方法。经文献检索，Raoul Stockle等人1999年在《Applied physics letters》(《应用物理快报》)第75期第2卷第160页至162页上发表了一篇名为“High-quality near-field optical probes by tubeetching(采用管蚀刻技术制备高质量的近场光学显微镜)”的文章，该文报道了一种制备纳米光纤尖端的新的微细加工工艺，它利用氢氟酸溶液在光纤聚合物涂层与光纤芯之间的毛细作用制备纳米本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光纤纳米尖端的加工方法，其特征在于：采用光纤端面微细加工方法在光纤端面喷涂光刻胶形成均匀胶层并完成前烘后，用带自对准的掩膜板对光刻胶进行曝光、显影，然后沉积用作氢氟酸腐蚀掩膜的掩膜层，将沉积掩膜后的光纤端部浸入氢氟酸腐蚀液，利用湿法腐蚀的钻蚀效应得到光纤端部纳米尖端结构。

【技术特征摘要】
1.一种光纤纳米尖端的加工方法，其特征在于采用光纤端面微细加工方法在光纤端面喷涂光刻胶形成均匀胶层并完成前烘后，用带自对准的掩膜板对光刻胶进行曝光、显影，然后沉积用作氢氟酸腐蚀掩膜的掩膜层，将沉积掩膜后的光纤端部浸入氢氟酸腐蚀液，利用湿法腐蚀的钻蚀效应得到光纤端部纳米尖端结构。2.根据权利要求1所述的这种光纤纳米尖端的加工方法，其特征是以下对本发明作进一步的描述(1)在光纤端面喷涂光刻胶形成均匀胶层；(2)光纤...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱军，李以贵，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]