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一种光纤纳米尖端的加工方法属于微细加工技术领域。本发明采用光纤端面微细加工方法在光纤端面喷涂光刻胶形成均匀胶层并完成前烘后，用带自对准的掩膜板对光刻胶进行曝光、显影，然后沉积用作氢氟酸腐蚀掩膜的掩膜层，将沉积掩膜后的光纤端部浸入氢氟酸腐蚀液...
该专利属于上海交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海交通大学授权不得商用。

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