【技术实现步骤摘要】
一种计算光刻投影物镜中朗奇剪切干涉图像的方法
本专利技术涉及光学测量
，特别涉及一种计算光刻投影物镜中朗奇剪切干涉图像的方法。
技术介绍
高精度、高速度提取投影物镜波像差的检测系统是高端光刻机的核心分系统。波像差是投影物镜成像质量的主要参数，直接决定光刻机的分辨率和套刻精度，高端光刻机投影物镜波像差已达到1nm以下，而随着产率提高，透镜的热像差更加显著。在现有的基于朗奇剪切干涉图像的检测方法中，通常假定物方光栅是理想的周期线条光栅(即具有无穷多线条的光栅，并且线条长度为无穷长)，该物方光栅为一维图形，而不是复杂的二维图形，具有局限性；并且传统检测方法的计算过程中假定成像模型是标量模型，而非严格的矢量模型，并且传统检测方法中的接收屏干涉图像计算默认采用远场近似技术(即夫琅禾费衍射区域)，然而这些近似条件在实际应用当中都具有一定局限性，难以精确的得到剪切干涉图像。
技术实现思路
为了克服目前现有的基于朗奇剪切干涉图像的检测方法中计算方法局限性大导致难以精确的得到剪切干涉图像的问题，本...
【技术保护点】
1.一种计算光刻投影物镜中朗奇剪切干涉图像的方法，用于计算并得出被测投影物镜的波像差，其特征在于：该方法包括以下步骤，/n步骤S1：通过计算得出射入物方光栅的光的标量电场函数及物方光栅的物方光栅频谱以得出被物方光栅衍射后的光的电场频谱空间分布函数；/n步骤S2：光通过被测投影物镜，计算得出被测投影物镜的光瞳函数并结合所述电场频谱空间分布函数算得光的出瞳处电场分布表达式；/n步骤S3：光照射在像方光栅上表面时得出其偏振信息，并通过几何旋转矩阵R
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种计算光刻投影物镜中朗奇剪切干涉图像的方法，用于计算并得出被测投影物镜的波像差，其特征在于：该方法包括以下步骤，
步骤S1：通过计算得出射入物方光栅的光的标量电场函数及物方光栅的物方光栅频谱以得出被物方光栅衍射后的光的电场频谱空间分布函数；
步骤S2：光通过被测投影物镜，计算得出被测投影物镜的光瞳函数并结合所述电场频谱空间分布函数算得光的出瞳处电场分布表达式；
步骤S3：光照射在像方光栅上表面时得出其偏振信息，并通过几何旋转矩阵R3×2将出瞳处电场分布表达式从局部坐标系的sp分量转化为全局坐标系的xyz分量以计算得出入射光的像方光栅上表面电场表达式；
步骤S4：计算得出RS积分核函数，并将像方光栅上表面电场表达式进行计算得出光的像方光栅下表面电场表达式，基于像方光栅下表面电场表达式并结合RS积分核函数进行计算以得到光在接收屏上形成的剪切干涉图形；
步骤S5：定义IMM(fx,fy；f′x,f′y)变量矩阵并对其进行本征值分解以重写多个剪切干涉图形并得到分解结果，通过重复计算所述分解结果以得出光在接收屏上不同剪切位置的精确剪切干涉图像。
2.如权利要求1所述的一种计算光刻投影物镜中朗奇剪切干涉图像的方法，其特征在于：照射到物方光栅上的光为光源输出的多方向的入射光，所述步骤S1进一步包括以下步骤；
步骤S11：通过计算得出照射在物方光栅上的光的光源频率(sx,sy)及空间频率(fx,fy)并得出射入平行光的标量电场函数为U(x,y)；
步骤S12：测得物方光栅透视率函数为m1(x′,y′)并对其进行傅里叶变换以得出物方光栅频谱为M1(fx,fy)；
步骤S13：进一步算出经过物方光栅衍射后的光的电场频谱空间分布函数为M1(fx-sx,fy-sy)，其表达式为：
在步骤S11中光源频率(sx,sy)用于描述光的入射方向，标量电场函数U(x,y)的表达式为：
3.如权利要求2所述的一种计算光刻投影物镜中朗奇剪切干涉图像的方法，其特征在于：在所述步骤S2中，所述光瞳函数为P(fx,fy)，其函数表达式为：
计算得出光在出瞳处成像时的辐射修正因子，其表达式为：
将所述电场频谱空间分布函数、所述光瞳函数及所述辐射修正因子依次相乘以得到所述出瞳处电场分布表达式：
4.如权利要求1所述的一种计算光刻投影物镜中朗奇剪切干涉图像的方法，其特征在于：所述步骤S3包括以下步骤：
步骤S31：所述几何旋转矩阵R3×2为3x2维的几何旋转矩阵，并通过琼斯矢量将所述出曈处电场分布表达式扩展为矢量形式以得到出曈处电场分布矢量表达式；
步骤S32：将所述出曈处电场分布矢量表达式的局部坐标系的sp分量转化为全局坐标系的xyz分量以计算得出所述像方光栅上表面电场表达式；
技术研发人员：牛志元，施伟杰，
申请(专利权)人：东方晶源微电子科技北京有限公司深圳分公司，
类型：发明
国别省市：广东;44
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