带电粒子束装置及带电粒子束装置的检测器位置调整方法制造方法及图纸

本发明专利技术是一种具备减速光学系统的带电粒子束装置，通过抑制由物镜‑试样间的构造物引起的减速电场的变化和轴偏离，能够降低对照射系统、检测系统造成的不良影响。带电粒子束装置具有：电子源(2)；使来自电子源的探测电子束聚焦于试样(12)的物镜(4)；使探测电子束加速的加速电极(3)；设于加速电极内的第一检测器(6)；在与加速电极之间形成针对探测电子束的减速电场并且探测电子束在其开口通过的减速电极(5)；以及插入减速电极与试样之间的第二检测器(7)，第二检测器具有比减速电极的开口大的开口部(9)，并在开口部的周围设有敏感面(8)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】带电粒子束装置及带电粒子束装置的检测器位置调整方法
本专利技术涉及带电粒子束装置及带电粒子束装置的检测器位置调整方法。
技术介绍
扫描电子显微镜(SEM：ScanningElectronMicroscope)检测在将聚焦后的探测电子束照射到试样上并扫描后产生的信号电子，并与照射电子束的扫描信号同步地显示各照射位置的信号强度，从而得到试样表面的扫描区域的二维图像。近年来，基于避免伴随SEM观察时的电子束照射引起的试样的带电、损伤以及得到极表面的试样信息的目的，照射能量约为1keV以下的低加速观察的重要度增加。但是，一般在低加速区域内，色差增大，难以得到高分辨率。为了降低该色差，已知有一种使探测电子束加速来使之高速地通过物镜并在即将到达试样前使之减速来照射的减速光学系统。在减速光学系统中被称为提升法的方法中，沿SEM的物镜的内磁路的内壁设置施加正电压的筒状的电极，而且试样为接地电位。并且，在被称为减速法的方法中，SEM柱的物镜侧保持为接地电位，对试样施加负电压。其特征在于，在任一方法中，从物镜至电子源侧的探测电子束的通过区域的电势相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带电粒子束装置，其特征在于，具有：/n电子源；/n物镜，其使来自上述电子源的探测电子束聚焦于试样；/n加速电极，其使上述探测电子束加速；/n第一检测器，其设于上述加速电极内；/n减速电极，其在与上述加速电极之间形成针对上述探测电子束的减速电场，并且上述探测电子束在其开口通过；以及/n第二检测器，其插入上述减速电极与上述试样之间，/n上述第二检测器具有比上述减速电极的开口大的开口部，在上述开口部的周围设有敏感面。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种带电粒子束装置，其特征在于，具有：
电子源；
物镜，其使来自上述电子源的探测电子束聚焦于试样；
加速电极，其使上述探测电子束加速；
第一检测器，其设于上述加速电极内；
减速电极，其在与上述加速电极之间形成针对上述探测电子束的减速电场，并且上述探测电子束在其开口通过；以及
第二检测器，其插入上述减速电极与上述试样之间，
上述第二检测器具有比上述减速电极的开口大的开口部，在上述开口部的周围设有敏感面。


2.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，
上述第二检测器的最小内径是上述减速电极的开口直径与取得上述第二检测器的最小内径的上述开口部的厚度的和以上。


3.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，
具有使上述第二检测器移动的位置移动机构。


4.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，
具有对上述第二检测器施加电压的电压源。


5.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，
具有对上述试样施加与施加给上述加速电极的电压极性相反的电压的电压源。


6.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，
上述第二检测器由多个检测器构成。


7.根据权利要求6所述的带电粒子束装置，其特征在于，
具有多个位置移动机构，
上述多个位置移动机构的各位置移动机构使构成上述第二检测器的上述多个检测器的任一个检测器的位置移动。


8.一种检测器位置调整方法，是带电粒子束装置的检测器位置调整方法，该带电粒子束装置具有减速光学系统和检测器，在上述减速光学系统中，使探测电子束聚焦于试样的磁透镜与使上述探测电子束减速的静电透镜重叠，上述检测器的位置由位置移动机构移动，上述检测器的最小内径比形成上述静电透镜的减速电极的开口直径大，
上述带电粒子束装置的检测器位置调整方法的特征在于，
在由上述位置移动机构使上述检测器从形成上述磁透镜的...

【专利技术属性】
技术研发人员：今井悠太，笹岛正弘，高鉾良浩，
申请(专利权)人：株式会社日立高新技术，
类型：发明
国别省市：日本;JP