一种简易的光学件波前测量方法技术

技术编号:26758350 阅读:38 留言:0更新日期:2020-12-18 22:21
本发明专利技术一种简易的光学件波前测量方法,需提供沿光路方向分布的准直光源、被测光学元件和光斑测试仪,所述方法包括:从所述准直光源出射两准直光束,分别为准直光束11和准直光束12;在无被测光学元件的情况下,两准直光束直接从准直光源入射到光斑测试仪上时,读取两准直光束对应的第一光斑位置信息;在有被测光学元件的情况下,读取两准直光束经被测光学元件折射后的第二光斑位置信息;利用两次读取到的光斑位置信息计算两准直光束在被测光学元件的第二个表面的入射角;根据入射角计算被测光学元件的第二个表面的曲率半径r,从而计算波前W。本发明专利技术测量方法,可快速计算测量结果,且所采用的光路结构简单,设备成本低。

【技术实现步骤摘要】
一种简易的光学件波前测量方法
本专利技术涉及波前测量,尤其涉及一种简易的光学件波前测量方法。
技术介绍
在自适应光学、光学检测、光电探测等应用领域,均需要测量光束的波前。目前主要有两大类的波前测量方法,第一类为测量出波前斜率,然后通过特定的波前重构算法恢复出波前分布,其中包括哈特曼波前测量技术和剪切干涉波前测量技术等。第二类为测量光学系统内不同平面上的光强分布,然后通过特定的算法恢复出波前分布,其中包括曲率波前测量技术和相位恢复法测量技术。剪切干涉测量系统一般需要硬件和软件两部分。硬件部分包括:剪切干涉仪,CCD,成像系统,图像采集系统等,软件部分包括:干涉图采集软件和干涉图处理软件。经过软件处理,可以得到波前,图1是剪切干涉光学原理图,其光路走向为:光束从光源1’出射出,依次经过被测元件2’、透镜阵列3’和光电探测器阵列4’。干涉测量方法被公认为至今为止以波长为基准的最精密的测试手段之一,但是剪切干涉测量技术(如Zygo干涉仪)一般光能利用率低,结构复杂,要求计算机重构算法处理速度快,使其应用受到一定的限制,其不适用于2mm*2mm以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种简易的光学件波前测量方法,其特征在于:需提供沿光路方向分布的准直光源、被测光学元件和光斑测试仪,所述方法包括如下步骤:/n步骤1、从所述准直光源出射两准直光束,分别为准直光束11和准直光束12;/n步骤2、在无被测光学元件的情况下,两准直光束直接从准直光源入射到光斑测试仪上时,读取两准直光束对应的第一光斑位置信息;/n步骤3、在有被测光学元件的情况下,两准直光束垂直入射到所述被测光学元件的第一个表面,在被测光学元件的第二个表面发生折射后,再入射到光斑测试仪上,读取两准直光束对应的第二光斑位置信息;/n步骤4、利用两次读取到的光斑位置信息计算两准直光束在被测光学元件的第二个表面的入射角,...

【技术特征摘要】
1.一种简易的光学件波前测量方法,其特征在于:需提供沿光路方向分布的准直光源、被测光学元件和光斑测试仪,所述方法包括如下步骤:
步骤1、从所述准直光源出射两准直光束,分别为准直光束11和准直光束12;
步骤2、在无被测光学元件的情况下,两准直光束直接从准直光源入射到光斑测试仪上时,读取两准直光束对应的第一光斑位置信息;
步骤3、在有被测光学元件的情况下,两准直光束垂直入射到所述被测光学元件的第一个表面,在被测光学元件的第二个表面发生折射后,再入射到光斑测试仪上,读取两准直光束对应的第二光斑位置信息;
步骤4、利用两次读取到的光斑位置信息计算两准直光束在被测光学元件的第二个表面的入射角,将所述准直光束11对应的入射角记为β1,所述准直光束12对应的入射角记为β2;
步骤5、根据β1和β2计算被测光学元件的第二个表面的曲率半径r,所述曲率半径r的计算公式为:其中,d为准直光束11和准直光束12的...

【专利技术属性】
技术研发人员:张芬陈建林林玲
申请(专利权)人:福建华科光电有限公司
类型:发明
国别省市:福建;35

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