透光元件结构与其制造方法技术

一种透光元件结构与其制造方法，此结构包括一ＰＭＭＡ基体和至少镀于ＰＭＭＡ基体其中一表面的薄膜，薄膜包括二氧化硅层、氟化镁层或五氧化二钽层中的一种或多种，与现有ＰＭＭＡ透光元件相比较，此透光元件结构提高了ＰＭＭＡ的透光率。实现上述结构的透光元件制造方法是采用电子蒸镀的方式将二氧化硅层、氟化镁层或五氧化二钽层中的一种或多种镀于ＰＭＭＡ基体的至少一个表面，以提高ＰＭＭＡ基体的透光率。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是关于一种，尤指一种适用于成像系统的PMMA。
技术介绍
随着光学领域的迅速发展，透光元件得到了广泛发展与应用。PMMA(Polymethyl Methacrylate，即聚甲基丙烯酸甲酯)是一种被广泛运用的透明聚合材料，由于其具备较佳的光学性能，可用作透光元件，因此摄像系统中的成像透镜可采用PMMA制成。对于理想状态下的PMMA镜片而言，光线能够完全透过镜头，并在摄像系统中的底片或CCD(Charge Coupled Device，电荷耦合器件)上完全聚焦并形成影像，然而，任何物体对光线都有反射作用，而PMMA的全光线透过率为92％，即，余下8％的光线形成炫光被反射出去，未能起到成像的效果，因而降低了影像的清晰度，由此，要提高成像的清晰度，PMMA的透光率需进一步提升。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种透光元件结构，其可有效提高PMMA的透光性能。本专利技术的目的还在于提供一种透光元件制造方法，其可有效提高PMMA的透光性能。本专利技术的透光元件结构包括一PMMA基体和至少镀于PMMA基体其中一表面的薄膜，薄膜是层状结构，其包括二氧化硅层、氟化镁层或五氧化二钽层中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种透光元件结构，其包括一ＰＭＭＡ基体，此ＰＭＭＡ基体包括第一表面和与之相对的第二表面，其特征在于：此ＰＭＭＡ基体的至少一表面上设置一薄膜，此薄膜具备层状结构，其包括二氧化硅层、氟化镁层或五氧化二钽层中的一种或多种。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吕昌岳，李青谚，余泰成，林志泉，陈杰良，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]