光学元件的制造方法技术

本发明专利技术提供一种在基板上具备多个金属线栅的光学元件的制造方法，其特征在于，通过ＬＳＰ（Ｌｉｑｕｉｄ　　Ｓｅｌｆ－ｐａｔｔｅｒｎｉｎｇ　　Ｐｒｏｃｅｓｓ）制作所述金属线栅。从而本发明专利技术提供一种更廉价且批量生产性高的偏振镜等光学元件的制造方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光学元件，尤其涉及一种可见光谱用的线栅偏振镜的制造方法。
技术介绍
以往，开发了各种光学元件，例如使特定的偏振光有效透射，同时使正交的偏振光有效反射的宽带宽线栅偏振镜等(专利文献1等)。目前，正实用化的无机偏振镜，为了形成金属的压花图案，在基板上形成抗蚀剂图案之后，通过RIE(Reactive Ion Etching，活性离子蚀刻)等进行干蚀刻。但是，若压花形状变成纳米级，则必须严密控制蚀刻参数，因此以很高的成品率生产高精度的偏振镜很困难。因此，要求制造一种价格更低且批量生产性高的高精度偏振镜等光学元件。本专利技术要解决的问题正是上述的现有技术中的问题。专利文献1特表2003-502708号公报
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于，提供价格更低且批量生产性高的偏振镜等。本专利技术正是基于上述见解而完成的专利技术，提供下述技术方案1。技术方案1一种在基板上具备多个金属线栅的，其中，由LSP(Liquid Self-Patterning Process)制作上述金属线栅。另外，本专利技术还分别提供下述技术方案2～7。技术方案2根据上述技术方案1所述的，通过使用金属本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学元件的制造方法，是在基板上具备多个金属线栅的光学元件的制造方法，其中，通过ＬＳＰ制作所述金属线栅。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：熊井启友，泽木大辅，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]