电弧等离子体炬用引燃气体分配环制造技术

本实用新型专利技术的电弧等离子体炬用引燃气体分配环，具有上环体、中环体和下环体；所述上环体的上表面呈具有凹凸结构的异形面，能够与绝缘套的下端面匹配，所述下环体的下表面具有与其外部阳极匹配压紧的圆锥面；所述中环体上绕轴均匀开设有若干切向孔，所述切向孔将流经分配环环体之外的气流导入分配环环体之内流出。本实用新型专利技术独立于绝缘套并单独固定于绝缘套底部，能够为气体提供平稳的出气分配结构，形成长期稳定的旋转气流，提高了电弧和电压的稳定性，尤其适用于金刚石材料的沉积制备。

【技术实现步骤摘要】
电弧等离子体炬用引燃气体分配环
本技术涉及化学气相沉积设备
，具体涉及一种电弧等离子体炬用引燃气体分配环，特别适用于金刚石涂层和金刚石膜的制备。
技术介绍
等离子体炬是用于气相沉积制备单晶材料、多晶材料或薄膜材料的一种重要装置。电弧等离子体炬是该类装置的具体类型之一，其结构一般具有一个阴极以及至少一个阳极，阴极和阳极之间通过施加直流电压以及高频高压能够形成电弧，至少一个相邻的电极之间具有进气通道，进气通道的出气端设有能够使气体形成旋转气流的结构，旋转气流推动电弧阳极斑点高速旋转形成旋转电弧，使等离子体均匀沉积。在现有的电弧等离子体炬中，进气通道一般设置于绝缘套内，促使气体形成旋转气流的出气端直接设置于绝缘套上，即出气端即为绝缘套底部结构的一部分，由于绝缘套长期在高温使用下可能会因老化等原因产生结构变形，因此容易使得绝缘套底部的出气端结构发生变化，从而使得形成的旋转气流不稳定，直接影响到电弧及电压的稳定，从而导致沉积材料发生纯度降低等不良品质。采用电弧等离子体炬可以制备多晶金刚石、单晶金刚石或薄膜材料，具有优异的物理性能，还本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电弧等离子体炬用引燃气体分配环，其特征在于，具有上环体(100)、中环体(200)和下环体(300)；所述上环体(100)的上表面呈具有凹凸结构的异形面(102)，能够与绝缘套(6)的下端面匹配，所述下环体(300)的下表面具有与其外部阳极匹配压紧的圆锥面(302)；所述中环体(200)上绕轴均匀开设有若干切向孔(201)，所述切向孔(201)将流经分配环环体之外的气流导入分配环环体之内流出。/n

【技术特征摘要】
1.一种电弧等离子体炬用引燃气体分配环，其特征在于，具有上环体(100)、中环体(200)和下环体(300)；所述上环体(100)的上表面呈具有凹凸结构的异形面(102)，能够与绝缘套(6)的下端面匹配，所述下环体(300)的下表面具有与其外部阳极匹配压紧的圆锥面(302)；所述中环体(200)上绕轴均匀开设有若干切向孔(201)，所述切向孔(201)将流经分配环环体之外的气流导入分配环环体之内流出。


2.根据权利要求1所述的电弧等离子体炬用引燃气体分配环，其特征在于，所述气体分配环为分体设计或一体成型设计，材质为绝缘胶木或者玻璃丝布板。


3.根据权利要求1所述的电弧等离子体炬用引燃气体分配环，其特征在于，所述上环体(100)具有最小内径的内壁(101)能够与套装于其内部的电极间隙配合，所述下环体(300)具有最大外径的外壁(301)能够与套装于其外部的电极间隙配合。


4.根据权利要求1所述的电弧等离子体炬用引燃气体分配环，其特征在于，所述异形面(102)的形态包括梯形面或者凹槽面。


5.根据权利要求1所述的电弧等离子体炬用引燃气体分配环，其特征在于，所述切向孔(201)的开孔方向与该孔在所在圆上对应的半径方向呈70°-90°夹角；
所述切向孔(201)的数量为3-24个；
所述切向孔的直径为0.5-8.0mm。


6.根据权利要求5所述的电弧等离子体炬用引燃气体分配环，其特征在于，所述切向孔(201)的开孔方向与该孔在所在圆上对应的半径方向呈90...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨卫正，
申请(专利权)人：杨卫正，
类型：新型
国别省市：天津;12