荧光X射线分析系统技术方案

本发明专利技术提供一种能够计算正确的测量时间的荧光X射线分析系统。通过对样品的表面照射1次X射线所产生的荧光X射线对所述样品进行分析，具有：作业执行部，执行表示处理条件的作业，处理条件是表示组合多个分析所需的动作而构成的测量条件的菜单与由该菜单所表示的测量条件所测量的样品相关联的条件；存储部，使各动作所需要的时间与各动作预先关联存储；计算部，当生成了作业时，基于存储部中存储的时间，对每个作业计算直到该作业的执行结束为止的时间；以及控制部，当作业被执行时，使动作所需的时间与该动作重新关联存储在所述存储部中，其中，当作业被执行时，计算部还基于存储部重新存储的时间计算直到作业的执行结束为止的时间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】荧光X射线分析系统
本专利技术涉及荧光X射线分析系统。
技术介绍
在直到所指示的动作完成为止需要时间的装置中，存在测量直到该动作结束为止的时间的装置。例如，专利文献1公开了一种X射线分析装置，在通过移动放置有样品的平台来仅测量样品的特定区域的X射线分析装置中，在存在多个移动路径时，模拟测量时间变短的路径。专利文献2公开了一种扫描电子显微镜，具有根据计算出的出现率和测定条件、异物或缺陷个数计算测量时间的功能。专利文献3公开了一种自动化学分析装置，当输入测量条件、测量开始的指示时，基于输入数据显示测量所需的时间及测量的剩余时间。专利文献4公开了一种测量机，根据给出了的测量条件自动计算并显示直到测量完成为止的时间。专利文献5公开了一种X射线分析装置，具备显示部，该显示部基于扫描模式、扫描范围等输入的测量条件，计算测量时间及测量结束预定时刻，并根据该计算出的结果显示测量结束预定时刻。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2012-189399号公报专利文献2:日本特开20本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种荧光X射线分析系统，通过对样品的表面照射1次X射线所产生的荧光X射线而对所述样品进行分析，其特征在于，具有：/n作业执行部，执行表示处理条件的作业，所述处理条件是表示组合多个所述分析所需的动作而构成的测量条件的菜单与由该菜单所表示的测量条件测量的所述样品相关联的条件；/n存储部，使各所述动作所需要的时间与各动作预先关联存储；/n计算部，当生成了所述作业时，基于所述存储部中存储的时间，对每个所述作业，计算直到该作业的执行结束为止的时间；以及/n控制部，当所述作业被执行时，使所述动作所需的时间与该动作重新关联而重新存储在所述存储部中，/n其中，当所述作业被执行时，所述计算部还基于所述存储部...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180621 JP 2018-1182151.一种荧光X射线分析系统，通过对样品的表面照射1次X射线所产生的荧光X射线而对所述样品进行分析，其特征在于，具有：
作业执行部，执行表示处理条件的作业，所述处理条件是表示组合多个所述分析所需的动作而构成的测量条件的菜单与由该菜单所表示的测量条件测量的所述样品相关联的条件；
存储部，使各所述动作所需要的时间与各动作预先关联存储；
计算部，当生成了所述作业时，基于所述存储部中存储的时间，对每个所述作业，计算直到该作业的执行结束为止的时间；以及
控制部，当所述作业被执行时，使所述动作所需的时间与该动作重新关联而重新存储在所述存储部中，
其中，当所述作业被执行时，所述计算部还基于所述存储部重新存储的时间计算直到所述作业的执行结束为止的时间。


2.根据权利要求1所述的荧光X射线分析系统，其特征在于，
所述存储部使所述菜单所表示的测量条件中包含的一系列动作的执行所需的时间与该菜单预先关联存储，
当生成了所述作业时，所述计算部基于预先与所述菜单关联存储的时间，对每个所述作业，计算直到该作业的执行结束为止的时间，
当所述菜单所表示的测量条件中包含的一系列动作被执行时，所述控制部使该一系列动作的执行所需的时间与该菜单重新关联存储在所述存储部中，
在所述菜单所表示的测量条件被执行...

【专利技术属性】
技术研发人员：喜多广明，栗田清逸，
申请(专利权)人：株式会社理学，
类型：发明
国别省市：日本;JP