X射线分析装置和峰搜索方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种X射线分析装置和峰搜索方法。峰搜索处理包括粗动扫描处理(S230)和微动扫描处理(S260)。粗动扫描处理(S230)获取关于第一波长范围的轮廓。微动扫描处理(S260)获取关于第二波长范围的轮廓，该第二波长范围包括通过粗动扫描处理(S230)获取到的轮廓的峰位置且比第一波长范围窄。粗动扫描处理(S230)中的各测量点的测量时间比微动扫描处理(S260)中的各测量点的测量时间短。

【技术实现步骤摘要】
X射线分析装置和峰搜索方法
本公开涉及一种X射线分析装置和峰搜索方法。
技术介绍
在电子探针显微分析仪(EPMA：ElectronProbeMicroAnalyzer)、荧光X射线分析装置等X射线分析装置中，已知一种具备波长色散型的分光器(WDS：WavelengthDispersiveSpectrometer)的装置。在日本特开平8-31367号公报中公开了一种峰搜索方法，该峰搜索方法能够在具备波长色散型的分光器的X射线分析装置中简单准确地求出使用分光器分离出的特征X射线的光谱中的强度最大的波长(峰位置)。根据通过分光器分离出的特征X射线的光谱的轮廓(以下有时简称为“轮廓”)准确地求出峰位置，由此例如能够提高对试样中含有的元素的浓度进行测定“定量分析”的精度。在定量分析中，为了测定目标元素的浓度，在使用该元素的浓度已知的标准试样测量出峰位置的强度之后，在相同的测定条件下针对该元素的浓度未知的试样测量峰位置的强度，根据它们的强度比来测定试样中的该元素的浓度。使用波长色散型的分光器得到的轮廓与使用能量色散型的分光器(EDS本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种X射线分析装置，具备：/n波长色散型的分光器；以及/n处理装置，其构成为执行峰搜索处理，在该峰搜索处理中，对使用所述分光器分离出的特征X射线的光谱的峰位置进行检测，/n其中，所述峰搜索处理包括扫描处理，在该扫描处理中，一边使所述分光器以使所述特征X射线的波长以规定间隔步长变化的方式工作，一边对所述特征X射线逐一进行规定时间的测量，由此获取所述光谱的轮廓，/n其中，所述扫描处理包括以下处理：/n第一扫描处理，获取关于第一波长范围的所述轮廓；以及/n第二扫描处理，获取关于第二波长范围的所述轮廓，该第二波长范围包括通过所述第一扫描处理获取到的所述轮廓的峰位置且比所述第一波长范围窄，/n其中，...

【技术特征摘要】
20190605 JP 2019-1056541.一种X射线分析装置，具备：
波长色散型的分光器；以及
处理装置，其构成为执行峰搜索处理，在该峰搜索处理中，对使用所述分光器分离出的特征X射线的光谱的峰位置进行检测，
其中，所述峰搜索处理包括扫描处理，在该扫描处理中，一边使所述分光器以使所述特征X射线的波长以规定间隔步长变化的方式工作，一边对所述特征X射线逐一进行规定时间的测量，由此获取所述光谱的轮廓，
其中，所述扫描处理包括以下处理：
第一扫描处理，获取关于第一波长范围的所述轮廓；以及
第二扫描处理，获取关于第二波长范围的所述轮廓，该第二波长范围包括通过所述第一扫描处理获取到的所述轮廓的峰位置且比所述第一波长范围窄，
其中，所述第一扫描处理的所述规定时间即第一规定时间比所述第二扫描处理的所述规定时间即第二规定时间短。


2.根据权利要求1所述的X射线分析装置，其特征在于，
所述处理装置构成为还执行平滑处理，在该平滑处理中，对通过所述第二扫描处理获取到的所述轮廓进行平滑化。


3.根据权利要求1或2所述的X射线分析装置，其特征在于，

【专利技术属性】
技术研发人员：坂前浩，
申请(专利权)人：株式会社岛津制作所，
类型：发明
国别省市：日本;JP