低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物制造技术

本发明专利技术提供一种可以形成固体摄像器的透镜的保护膜、光波导路等光学部件中的低折射率层的低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物。该低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物含有硅氧烷聚合物和烷基季胺。作为上述硅氧烷聚合物，优选使用由（１）所表示的至少一种硅烷化合物的水解产物和／或部分缩合产物，Ｒ↓［ｎ］ＳｉＸ↓［４－ｎ］（１）（式中，Ｒ独立地表示氢原子或１价有机基团，Ｘ表示水解性基团，ｎ表示０～２的整数，并且多个Ｒ可以相同，也可以不同）。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物，所述组合物可以形成例如固体摄像器的透镜的保护膜或光波导路等光学元件中的低折射率层。
技术介绍
例如，在固体摄像器等中的透镜的保护膜、光波导路等中，形成有低折射率层。作为形成这样的低折射率层的方法，有使用CVD法的方法、使用涂布法的方法等。其中，由于涂布法简单，因此要求可用于涂布法的材料。这种可用于涂布法的材料，例如公开于专利文献1、2中。专利文献1特开2002-9266号公报专利文献2特开2004-91579号公报
技术实现思路
然而，上述专利文献1、2中所公开的材料存在无法得到足够低折射率的问题。本专利技术鉴于上述情况而进行，其目的是提供一种能够获得低折射率的低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物。为了实现上述目的，本专利技术的低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物，其特征在于，含有硅氧烷聚合物和烷基季胺。作为其它方案，本专利技术的低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物，其特征在于，含有硅氧烷聚合物、热分解性成分和金属化合物。此外，作为其它方案，本专利技术的低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物，其特征在于，含有硅氧烷聚合物、热分解性成分，和选自碱本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低折射率二氧化硅类涂膜形成用组合物，其特征在于，含有硅氧烷聚合物和烷基季胺。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：坂本好谦，饭田启之，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]