蒸镀源及具有该蒸镀源的蒸镀设备制造技术

技术编号:26666544 阅读:13 留言:0更新日期:2020-12-11 18:14
本公开提供了一种蒸镀源及具有该蒸镀源的蒸镀设备,属于显示器技术领域。该蒸镀源包括包括至少两个蒸镀源单体,所述蒸镀源单体包括:气流平衡件,所述气流平衡件为内部中空的空心结构;喷嘴,所述喷嘴连接于所述气流平衡件的一侧;坩埚,所述坩埚可拆卸连接于所述气流平衡件的另一侧,所述坩埚为顶部开口的中空结构,所述中空结构形成填料腔,所述气流平衡件连通所述喷嘴的开口端与所述填料腔;所述至少两个蒸镀源单体水平并排排列。该蒸镀源有助于提高蒸镀薄膜的均匀性,提升材料装填的便捷度。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀源及具有该蒸镀源的蒸镀设备
本公开涉及显示器
,尤其涉及一种蒸镀源及具有该蒸镀源的蒸镀设备。
技术介绍
近年随着移动消费电子产品的不断更新换代,带动了上游AMOLED显示行业的迅速发展。在AMOLED显示领域,材料蒸镀是较为核心的一段工艺。蒸镀是指在高真空环境下对镀膜材料进行加热,使其升华并在基板上成膜。现有量产的蒸镀设备一般都使用线性蒸镀源。然而,线性蒸镀源装填材料工序繁琐,在加热过程中,材料的升温降温速率难以控制。所述
技术介绍
部分公开的上述信息仅用于加强对本公开的背景的理解,因此它可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本公开的目的在于提供一种蒸镀源和具有该蒸镀源的蒸镀设备,以提高蒸镀薄膜的均匀性,提升材料装填的便捷度。为实现上述技术目的,本公开采用如下技术方案:根据本公开的第一个方面,提供一种蒸镀源,包括至少两个蒸镀源单体,所述蒸镀源单体包括:气流平衡件,所述气流平衡件为内部中空的空心结构;喷嘴,所述喷嘴连接于所述气流平衡件的一侧;坩埚,所述坩埚可拆卸连接于所述气流平衡件的另一侧,所述坩埚为顶部开口的中空结构,所述中空结构形成填料腔,所述气流平衡件连通所述喷嘴的开口端与所述填料腔;所述至少两个蒸镀源单体水平并排排列。在本公开的一种示例性实施例中,所述气流平衡件包括两端端口密封且内部中空的横杆,所述喷嘴连接于所述横杆的一侧侧壁,所述坩埚的顶部开口端可拆卸连接于所述横杆的另一侧侧壁,所述横杆连通所述喷嘴的开口端与所述填料腔。在本公开的一种示例性实施例中,所述气流平衡件还包括第一连接部和第二连接部,所述喷嘴通过所述第一连接部与所述横杆连通,所述坩埚通过所述第二连接部与所述横杆连通。在本公开的一种示例性实施例中,所述空心结构形成气流平衡腔,所述喷嘴的开口端、所述气流平衡腔与所述填料腔相互连通。在本公开的一种示例性实施例中,所述气流平衡件与所述喷嘴为一体结构。在本公开的一种示例性实施例中,相邻两个所述蒸镀源单体间通过所述气流平衡件连接,相邻两个蒸镀源单体的喷嘴位于同一水平线。在本公开的一种示例性实施例中,所述坩埚为顶部开口的柱形结构,所述柱形结构在竖直方向上的高度大于在水平方向上的宽度。在本公开的一种示例性实施例中,所述坩埚包括:两端开口且内部中空的筒体和密封连接于所述筒体一端开口的密封体,所述密封体为锥形结构。在本公开的一种示例性实施例中,所述蒸镀源还包括加热件,所述气流平衡件、所述喷嘴和所述坩埚均设置有所述加热件。根据本公开的第二个方面,提供一种蒸镀设备,包括上述所述的蒸镀源。本公开提供的蒸镀源,包含至少两个蒸镀源单体,每个蒸镀源单体都含有坩埚、气流平衡件和喷嘴,坩埚内的材料被加热气化,随后进入气流平衡件,并最终从喷嘴喷出,完成对基板的沉积成膜。气流平衡件为两端密封的空心结构,蒸镀源单体间水平并排排列,即,每个蒸镀源单体间是间隔的、相互独立的,不同蒸镀源单体的蒸发速率可分别进行控制,此控制方式更加灵活,有助于保证薄膜的均匀性。此外,坩埚与气流平衡件可拆卸连接,在装填材料时,将坩埚直接从气流平衡件上拆卸下来,从顶部开口进行填料。由于包含至少两个坩埚,可将所需材料分段底填入不同的坩埚中,减少坩埚的端面密封面积,提高材料装填的便捷度。附图说明通过参照附图详细描述其示例实施方式,本公开的上述和其它特征及优点将变得更加明显。图1是相关技术中线性蒸镀源结构示意图;图2是本公开一种实施方式的蒸镀源结构示意图;图3是本公开一种实施方式的蒸镀源单体结构剖视图。图中主要元件附图标记说明如下:10蒸镀源、100蒸镀源单体、110气流平衡件、111横杆、112第一连接部、113第二连接部、114、气流平衡腔、120喷嘴、130坩埚、131填料腔、132筒体、133密封体、200线形蒸镀源、210外壳、220长条形坩埚具体实施方式现在将参考附图更全面地描述示例实施例。然而,示例实施例能够以多种形式实施,且不应被理解为限于在此阐述的范例;相反,提供这些实施例使得本公开将更加全面和完整,并将示例实施例的构思全面地传达给本领域的技术人员。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中,提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。在图中,为了清晰,可能夸大了区域和层的厚度。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构,因而将省略它们的详细描述。所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中,提供许多具体细节从而给出对本公开的实施例的充分理解。然而,本领域技术人员将意识到,可以实践本公开的技术方案而没有所述特定细节中的一个或更多,或者可以采用其它的方法、组元、材料等。在其它情况下,不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本公开的主要技术创意。当某结构在其它结构“上”时,有可能是指某结构一体形成于其它结构上,或指某结构“直接”设置在其它结构上,或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。用语“一个”、“一”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等;用语“包括”和“具有”用以表示开放式的包括在内的意思并且是指除了列出的要素/组成部分/等之外还可存在另外的要素/组成部分/等。用语“第一”和“第二”等仅作为标记使用,不是对其对象的数量限制。相关技术中,蒸镀源多为线性蒸镀源,即一种外形近似汉字“一”的线性蒸镀源。一字型线性蒸镀源近似为一个长方体,长方体内部添加有材料,顶端设置有一排水平间隔排布的喷头,当长方体侧壁被加热时,内部材料气化从顶端喷头处喷出,并最终在基板上沉积成膜。如图1所示,相关技术中,线性蒸镀源200包括外壳210,外壳210顶端连接有喷射口,外壳210内设置有长条形坩埚220,长条形坩埚220壁上设置有加热丝,外壳210和长条形坩埚220都近似为长方体。在该线性蒸镀源200中,蒸镀所用材料全部平铺在长条形坩埚220内,在装填完材料后,需做端面密封,但该种长条形坩埚220密封面积大,密封过程繁琐。如图2及图3所示,本公开提供一种蒸镀源10,包括蒸镀源单体100,蒸镀源单体100包括:气流平衡件110,气流平衡件110为内部中空的空心结构;喷嘴120,喷嘴120连接于气流平衡件110的一侧;坩埚130,坩埚130可拆卸连接于气流平衡件110的另一侧,坩埚130为顶部开口的中空结构,中空结构形成填料腔131,气流平衡件110连通喷嘴120的开口端与填料腔131;至少两个蒸镀源单体100水平并排排列。本公开提供的蒸镀源10,包含至少两个蒸镀源单体100,每个蒸镀源单体100都含有坩埚130、气流平衡件110和喷嘴120,坩埚130内的材料被加热气化,随后进入气流平衡件110,并最终从喷嘴120喷出,完成对基板的沉积成膜。气流平衡件110为两端密封的空心结构,本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种蒸镀源,其特征在于,包括至少两个蒸镀源单体,所述蒸镀源单体包括:/n气流平衡件,所述气流平衡件为内部中空的空心结构;/n喷嘴,所述喷嘴连接于所述气流平衡件的一侧;/n坩埚,所述坩埚可拆卸连接于所述气流平衡件的另一侧,所述坩埚为顶部开口的中空结构,所述中空结构形成填料腔,所述气流平衡件连通所述喷嘴的开口端与所述填料腔;/n所述至少两个蒸镀源单体水平并排排列。/n

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀源,其特征在于,包括至少两个蒸镀源单体,所述蒸镀源单体包括:
气流平衡件,所述气流平衡件为内部中空的空心结构;
喷嘴,所述喷嘴连接于所述气流平衡件的一侧;
坩埚,所述坩埚可拆卸连接于所述气流平衡件的另一侧,所述坩埚为顶部开口的中空结构,所述中空结构形成填料腔,所述气流平衡件连通所述喷嘴的开口端与所述填料腔;
所述至少两个蒸镀源单体水平并排排列。


2.根据权利要求1所述的蒸镀源,其特征在于,所述气流平衡件包括两端端口密封且内部中空的横杆,所述喷嘴连接于所述横杆的一侧侧壁,所述坩埚的顶部开口端可拆卸连接于所述横杆的另一侧侧壁,所述横杆连通所述喷嘴的开口端与所述填料腔。


3.根据权利要求2所述的蒸镀源,其特征在于,所述气流平衡件还包括第一连接部和第二连接部,所述喷嘴通过所述第一连接部与所述横杆连通,所述坩埚通过所述第二连接部与所述横杆连通。


4.根据权利要求1所述的蒸镀源,其特征在于,所述空心...

【专利技术属性】
技术研发人员:李玉峰徐飞
申请(专利权)人:中山凯旋真空科技股份有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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