一种渐变PET膜的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种渐变PET膜的制备方法，包括以下步骤：S1：将PET膜平铺，并在PET膜上镀上具有折射率的材料层；S2：将PET膜的另一面制备UV转印纹理层；S3：在UV转印纹理层表面沉积光学薄膜层；S4：在光学薄膜层通过化学腐蚀形成厚度均匀变化的光学薄膜层；S5：在光学薄膜层喷涂着色层；S6：着色层上模压形成镭射效果层。本发明专利技术，通过在PET膜上镀上具有折射率的材料层，且折射率的材料层由高折射率材料层和低折射率材料层交替组成；使得的PET膜具有通过对光线的折射，使得膜具有渐变色的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种渐变PET膜的制备方法
本专利技术涉及PET膜制备
，具体是一种渐变PET膜的制备方法。
技术介绍
真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料)，属于物理气相沉积工艺。在所有被镀材料中，以塑料最为常见，塑料具有来源充足、性能易于调控、加工方便等优势，因此种类繁多的塑料或其他高分子材料作为工程装饰性结构材料，大量应用于汽车、家电、日用包装、工艺装饰等工业领域；但塑料材料大多存在表面硬度不高、外观不够华丽、耐磨性低等缺陷，如在塑料表面蒸镀一层极薄的金属薄膜，即可赋予塑料程亮的金属外观，合适的金属源还可大大增加材料表面耐磨性能，大大拓宽了塑料的装饰性和应用范围。随着模内注塑工艺的发展,PET膜应用在手机、电器等电子用品的外壳制作中已越来越广泛,用户对外壳外观的需求呈现出多元化的趋势。如，要求外壳具有渐变效果，使产品外观更加美观，而塑胶材料(如PET)本来为透光的无色产品，真空镀膜设备的蒸发源至真空镀膜设备真空腔室内的夹具上塑胶材料的间距一致，使真空镀膜的方式无法形成渐变膜效果，只能在PET膜的表面进行不同颜色的分区域印刷，使一片PET膜上具有多个颜色，然而，此种渐变的制作方式会使两个颜色之间无法自然过渡，会产生凸变效果，无法实现真正的颜色渐变效果。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种渐变PET膜的制备方法，以解决现有技术中的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种渐变PET膜的制备方法，包括以下步骤：S1：将PET膜平铺，并在PET膜上镀上具有折射率的材料层；S2：将PET膜的另一面制备UV转印纹理层；S3：在UV转印纹理层表面沉积光学薄膜层；S4：在光学薄膜层通过化学腐蚀形成厚度均匀变化的光学薄膜层；S5：在光学薄膜层喷涂着色层；S6：着色层上模压形成镭射效果层。优选的，所述步骤S1中PET膜上镀上具有折射率的材料层由高折射率材料层和低折射率材料层交替组成。优选的，所述高折射率材料层和低折射率材料层工设置有3层或5层。优选的，所述PET膜上镀上具有折射率的材料层的制备方法包括以下步骤：S11：将PET膜平铺，并将真空镀膜设备的真空腔室的真空压力环境抽至7.5×10-4Pa；S12：利用真空镀膜设备在PET膜上蒸镀一层高折射率材料层；S13：利用真空镀膜设备在PET膜上再蒸镀一层低折射率材料层；S14：利用真空镀膜设备在PET膜上再蒸镀一层高折射率材料层；S15：重复步骤S13-S14，直到获得需要的层数。优选的，所述高折射率材料层为五氧化三钛材料层，所述低折射率材料层为二氧化硅材料层。优选的，所述UV转印纹理层厚度为10-11微米。优选的，所述步骤S3中采用真空蒸发镀膜或者溅射镀膜的方式在UV转印纹理层表面沉积光学薄膜层，所述光学薄膜层采用二氧化硅或二氧化钛。优选的，所述步骤S4中化学腐蚀所用的腐蚀液为包含HF/NH4F的缓冲溶液，腐蚀液的质量浓度为3-4％，所述化学腐蚀的反应的速率为10-13nm/min。优选的，所述步骤S5中的着色层的厚度为10-12微米。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：1.通过在PET膜上镀上具有折射率的材料层，且折射率的材料层由高折射率材料层和低折射率材料层交替组成；使得的PET膜具有通过对光线的折射，使得膜具有渐变色的效果；2.通过将PET膜的另一面制备UV转印纹理层；在UV转印纹理层表面沉积光学薄膜层；在光学薄膜层通过化学腐蚀形成厚度均匀变化的光学薄膜层；从而获得的膜又增加一次渐变的效果；3.通过设置着色层，可根据需要选择膜的颜色，从而实现不同颜色的渐变效果，功能更加多样。附图说明附图用来提供对本专利技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本专利技术的实施例一起用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的限制。在附图中：图1为本专利技术的流程图。图2为本专利技术折射率的材料层的制备的流程图。图3为本专利技术实施例一的结构示意图。图4为本专利技术实施例二的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本专利技术实施方式中的附图，对本专利技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本专利技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本专利技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本专利技术保护的范围。因此，以下对在附图中提供的本专利技术的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本专利技术的范围，而是仅仅表示本专利技术的选定实施方式。基于本专利技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本专利技术保护的范围。实施例一请参阅图1-3，本专利技术实施例中，一种渐变PET膜的制备方法，包括以下步骤：S1：将PET膜平铺，并在PET膜上镀上具有折射率的材料层；S2：将PET膜的另一面制备UV转印纹理层；S3：在UV转印纹理层表面沉积光学薄膜层；S4：在光学薄膜层通过化学腐蚀形成厚度均匀变化的光学薄膜层；S5：在光学薄膜层喷涂着色层；S6：着色层上模压形成镭射效果层。优选的，所述步骤S1中PET膜上镀上具有折射率的材料层由高折射率材料层和低折射率材料层交替组成。优选的，所述高折射率材料层和低折射率材料层工设置有3层。优选的，所述PET膜上镀上具有折射率的材料层的制备方法包括以下步骤：S11：将PET膜平铺，并将真空镀膜设备的真空腔室的真空压力环境抽至7.5×10-4Pa；S12：利用真空镀膜设备在PET膜上蒸镀一层高折射率材料层；S13：利用真空镀膜设备在PET膜上再蒸镀一层低折射率材料层；S14：利用真空镀膜设备在PET膜上再蒸镀一层高折射率材料层；优选的，所述高折射率材料层为五氧化三钛材料层，所述低折射率材料层为二氧化硅材料层。优选的，所述UV转印纹理层厚度为10-11微米。优选的，所述步骤S3中采用真空蒸发镀膜或者溅射镀膜的方式在UV转印纹理层表面沉积光学薄膜层，所述光学薄膜层采用二氧化硅或二氧化钛。优选的，所述步骤S4中化学腐蚀所用的腐蚀液为包含HF/NH4F的缓冲溶液，腐蚀液的质量浓度为3-4％，所述化学腐蚀的反应的速率为10-13nm/min。优选的，所述步骤S5中的着色层的厚度为10-12微米。本专利技术的工作原理是：将PET膜平铺，并在PET膜上镀上具有折射率的材料层；将PET膜的另一面制备UV转印纹理层；在UV转印纹理层表面沉积光学薄膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：/nS1：将PET膜平铺，并在PET膜上镀上具有折射率的材料层；/nS2：将PET膜的另一面制备UV转印纹理层；/nS3：在UV转印纹理层表面沉积光学薄膜层；/nS4：在光学薄膜层通过化学腐蚀形成厚度均匀变化的光学薄膜层；/nS5：在光学薄膜层喷涂着色层；/nS6：着色层上模压形成镭射效果层。/n

【技术特征摘要】
1.一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1：将PET膜平铺，并在PET膜上镀上具有折射率的材料层；
S2：将PET膜的另一面制备UV转印纹理层；
S3：在UV转印纹理层表面沉积光学薄膜层；
S4：在光学薄膜层通过化学腐蚀形成厚度均匀变化的光学薄膜层；
S5：在光学薄膜层喷涂着色层；
S6：着色层上模压形成镭射效果层。


2.根据权利要求1所述的一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：所述步骤S1中PET膜上镀上具有折射率的材料层由高折射率材料层和低折射率材料层交替组成。


3.根据权利要求2所述的一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：所述高折射率材料层和低折射率材料层工设置有3层或5层。


4.根据权利要求3所述的一种渐变PET膜的制备方法，其特征在于：所述PET膜上镀上具有折射率的材料层的制备方法包括以下步骤：
S11：将PET膜平铺，并将真空镀膜设备的真空腔室的真空压力环境抽至7.5×10-4Pa；
S12：利用真空镀膜设备在PET膜上蒸镀一层高折射率材料层；
S13：利用真空镀膜设备...

【专利技术属性】
技术研发人员：毕乃快，
申请(专利权)人：苏州裕信宏塑料包装有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32