【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种干蚀刻方法，其特征在于： 使用由含卤素原子的气体和含氮原子的气体组成的混合气体生成的等离子体对含钨和碳的物体进行蚀刻。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：中川秀夫，屉子胜，村上友康，
申请(专利权)人：松下电器产业株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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