【技术实现步骤摘要】
,及其制备方法、用途的制作方法
本专利技术涉及一种防反射薄膜，及其制备方法、用途。具体涉及一种具有纳 米孔无机聚合层的防反射薄膜，及其制备方法、用途。
技术介绍
光线照射在物体表面会发生反射，透射和吸收。光线的反射有些是有益，如 反射镜、光纤通讯等。然而，有时反射光却是有害的。例如在显示器表面，在无 涂层情况下会有4%的反射率，这时一方面会直接影响使用者的观赏质量及降低 显示器的光穿透性不仅在显示屏上产生物体的影像，破坏屏幕图像的完整性， 而且还反射周围光源的光线，造成屏幕亮度不均；另一方面，从环保的角度来 讲，显示屏长时间的反射不仅会对人体视觉器官造成严重的损害，而且会对使 用者造成心理上的影响。所以如何减少显示屏的反射，使其减少对人眼睛的损 害成为研究者的目标。目前抑制反射主要通过以下途径 一是将荧光屏打磨处理，使其对环境的 光线形成漫反射，但反射率仍有2%; 二是在屏幕表面覆盖一层特殊的防反射薄 膜。防反射膜的基本原理是让反射光之间产生干涉，从而抵消反射光的能量，达 到降低反射的作用(图1)。防反射薄膜的制作工艺分为湿式和干式。干式工艺 如真空蒸镀、磁控溅射...
【技术保护点】
一种具有纳米孔的防反射薄膜，包括基材层和防反射涂层，其特征在于，所述基材层为透明材料，所述防反射涂层中随机分布或有序分布孔尺寸均匀的纳米孔，纳米孔直径为０．５－５纳米，孔间距为０．５－５０纳米，所述防反射涂层是以分子式为Ｍ－（ＯＲ）↓［ｘ］的化合物为原料水解形成，其中Ｍ为：Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｎｂ或Ａｌ；Ｒ为：ＣＨ↓［３］、Ｃ↓［２］Ｈ↓［５］或Ｃ↓［３］Ｈ↓［７］；当Ｍ为Ａｌ，Ｘ为３；当Ｍ为Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ，Ｘ为４；当Ｍ为Ｔａ、Ｎｂ，Ｘ为５。
【技术特征摘要】
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