表面保护薄膜及带有表面保护薄膜的光学薄膜制造技术

本发明专利技术提供一种即使使用橡胶类粘合剂也可以实现对自背面的低剥离（低开卷力），并且对被粘物的粘接可靠性优良的表面保护薄膜，以及使用了该表面保护薄膜的带有表面保护薄膜的光学薄膜。本发明专利技术的表面保护薄膜（１）是在基材层（１０）的一面层叠有粘合剂层（１２），在所述基材层（１０）的另一面层叠有脱模处理层（１４）的表面保护薄膜（１），其特征是，所述粘合剂层（１２）由橡胶类形成，所述脱模处理层（１４）由丙烯酸硅氧烷接枝聚合物形成。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及表面保护薄膜及带有表面保护薄膜的光学薄膜。更具体来 说，本专利技术涉及要求轻剥离的薄膜或忌讳污染的薄膜，其中特别适于构成液晶显示器(LCD)、等离子体显示器、有机EL (电致发光)、场发射显 示器等的光学薄膜(光学薄片)等的表面保护薄膜及带有表面保护薄膜的 光学薄膜。
技术介绍
以往，在对塑料产品或金属板进行加工、搬运等之时，为了不对这些 被粘物的表面造成损伤等，临时贴附表面保护薄膜而实现对被粘物的表面 的保护。作为此种被粘物的表面保护薄膜，使用在基材薄膜的一面设置了 粘合剂层的粘合薄膜。迄今为止，在具有橡胶类粘合剂或聚烯烃类薄膜等熔点低的薄膜的胶 带中，常使用长链烷基类脱模处理层。但是，该组合的胶带的开巻力变得 非常大，贴合的操作性非常差(例如参照专利文献1、 2)。所以，也正在 研究脱模效果非常高的硅氧烷类的脱模处理层(例如参照专利文献3)。但 是己经判明，对于迄今为止的硅氧烷类的脱模处理层，在热硬化时薄膜会 暴露于高温中，如果是熔点低的薄膜，则在热硬化时就会有薄膜收縮的问 题。另外，对于以往的硅氧烷类的脱模处理层，还有容易产生低分子、容 易产生污染的问题。另外，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表面保护薄膜，是在基材层的一面层叠有粘合剂层，在所述基材层的另一面层叠有脱模处理层的表面保护薄膜，其特征是，所述粘合剂层由橡胶类形成，所述脱模处理层由丙烯酸硅氧烷接枝聚合物形成。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：由藤拓三，高田信一，山本充志，奥村和人，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]