【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光学器件，具体涉及一种用于光纤光栅制作的248纳米波 段的零级抑制相位掩模。
技术介绍
光纤光栅技术是当前光纤通信、光纤传感、光信息处理领域的一个全球性 热门课题，是继20世纪70年代低损耗光纤、80年代掺铒光纤放大器(EDFA) 之后，光纤领域中具有里程碑意义的第3次重大技术突破。近年来，光纤光栅 在光纤通信和传感
中得到了越来越广泛的应用。在光纤通信方面，光 纤光栅的影响几乎遍及系统的各个部分，包括光发送、光放大、光纤色散补偿 和光接收等等；在传感器方面，光纤光栅也有着广阔的应用前景，它能够方便 地实现物理量的分布式传感，可应用于建筑结构监控、化学传感和航空航天等 各个方面。在制作光纤光栅的方法中相位掩模法不依赖于入射光波长，只与相位掩模 的周期有关，适合批量生产，同时又较容易实现，该方法是在制作光纤光栅时， 一束紫外相干光垂直入射到相位掩模的表面，在紧贴着相位掩模处，放入光纤， 主要根据±1级衍射光的干涉，在光纤内形成光纤光栅，实际使用时，必须对 零级衍射光进行抑制。目前在相位掩模法中大多使用248纳米的准分子激光 器，因此针对24...
【技术保护点】
一种２４８纳米波段的零级抑制相位掩模，主要由石英基片以及设置在石基基片一侧表面的槽形结构的光栅构成，其特征在于：所述相位掩模的光栅周期为１０５０ｎｍ～１０９０ｎｍ，槽形深度为２４０～２６０ｎｍ，所述光栅的每一凸起结构的截面形状为上窄下宽的梯形，梯形的顶部占宽比为０．４０～０．４６，梯形角为５～１３度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：刘全，吴建宏，胡祖元，陈新荣，李朝明，
申请(专利权)人：苏州大学，
类型：发明
国别省市：32[中国|江苏]
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