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本发明公开了一种２４８纳米波段的零级抑制相位掩模，主要由石英基片以及设置在石英基片一侧表面的槽形结构的光栅构成，其特征在于：所述相位掩模的光栅周期为１０５０ｎｍ～１０９０ｎｍ，槽形深度为２４０～２６０ｎｍ，所述光栅的每一凸起结构的截面形状为...
该专利属于苏州大学所有，仅供学习研究参考，未经过苏州大学授权不得商用。

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