光波导膜及其制造方法技术

光波导膜配备：具有包层和被所述包层覆盖的芯层的膜；以及粘着剂层，该粘着剂层形成在所述膜的至少单面，并在表面具有算术平均粗糙度为０．１微米～２．０微米的凹凸结构，而且频率１赫的扭转模式动态粘弹性测量得到的２５℃的储存弹性模量为１０兆巴～１００兆巴。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
以往，已知利用光波导膜、对设置在光基片上的多个光学元件之间进行光 连接。这种光波导膜配置在光基片时，需要对光基片精密定位，以确保光路准 确。作为这种光波导膜，例如已提出由多个光布线层组成并以硬化型粘接剂为中介、形成在硅基片上的光布线膜(例如参考日本国特开2002—116334号公报)。 此方案中，首先，在光布线膜涂敷液状硬化型粘接剂(未硬化)，接着以液状硬 化型粘接剂层为中介，将光布线膜对光基片定位，然后形成因硬化而具有所希 望粘接力的硬化型粘接剂层，并将光布线膜固定在光基片上。然而，日本国特开2002—116334号公报中，对光基片固定光布线膜的期间， 液状硬化型粘接剂进行流动，到达光布线膜与光学元件的连接部分，则可能妨 碍光布线层的光路。另一方面，如果使用预先具有粘接力的片状粘接剂层，则粘接剂层难流动， 虽然不担心妨碍光路，但粘接剂层的初期粘接力大，所以粘接剂层一接触光基 片，就立即将光波导膜固定于光基片。因此，定位中，难以调整光波导膜对光 基片的配置。其结果，光波导膜难对光基片高精度定位。本专利技术的目的在于，提供一种定位时容易剥离从而能得到优良的定位精度、 并且定位后能将膜可靠地固定的连接可靠性高的。
技术实现思路
本专利技术的光波导膜，配备具有包层和被所述包层覆盖的芯层的膜；以及粘着剂层，该粘着剂层形成在所述膜的至少单面，并在表面具有算术平均表面粗糙度为0.1微米 2.0微米的凹凸结构，而且频率1赫的扭转模式动态粘弹性测量得到的25'C的储存弹性模量为10兆巴 100兆巴。本专利技术的光波导膜中，由丙烯类粘着剂组成物，形成所述粘着剂层为妥。 而且，本专利技术的光波导膜中，所述粘着剂层的厚度大于等于IO微米为妥。 又，本专利技术的光波导膜中，所述粘着剂层的初期粘接力小于等于0.5牛顿/厘米为妥。本专利技术的光波导膜制造方法，具有以下工序准备具有算术平均表面粗糙 度为0.1微米 2.0微米的凹凸结构的表面的靠模的工序；在所述靠模的表面涂 覆粘着剂组成物的工序；使所述粘着剂组成物硬化，并形成频率l赫的扭转模 式动态粘弹性测量得到的25'C的储存弹性模量为10兆巴 100兆巴的粘着剂 层的工序；准备具有包层和被所述包层覆盖的芯层的膜的工序；以及装贴所述 包层和与所述靠模接触的所述粘着剂层的表面的相反面的表面的工序。根据本专利技术的光波导膜，光波导膜在对被粘接体的初期粘接中，使粘接剂 层的特定表面粗糙度的凹凸结构的表面与被粘接体接触，因此能减小初期粘接 力。因此，使定位时的剥离容易，能得到优良的定位精度。而且，粘接剂层具有特定的储存弹性模量，因此能抑制对被粘接体初期粘 结中的粘接剂层的流动，防止粘接剂层妨碍芯层的光路。因此，定位时，能一面重复膜对被粘接体的粘接和剥离、调整膜对被粘接 体的配置， 一面以优良的定位精度定位，定位后，能将膜可靠地固定于被粘接 体，进而能确保优良的连接可靠性。又，本专利技术的光波导膜制造方法，具有以下工序准备具有特定表面粗糙 度的凹凸结构的表面的靠模的工序；在所述靠模的表面涂覆粘着剂组成物的工序；以及使所述粘着剂组成物硬化，并形成特定储存弹性模量的粘着剂层的工 序。因此，此方法将靠模的表面具有的特定表面粗糙度的凹凸结构，复制到由 涂覆在靠模表面的粘接剂组成物形成的粘接剂层的表面，因此能准确且简便地 形成具有特定表面粗糙度的凹凸结构的表面的粘接剂层。 而且，此方法具有装贴包层和与靠模接触的粘着剂层的表面的相反面的表面的工序，因此能充分确保包层与粘接剂层的接触面积，使包层与粘接剂层可 靠地粘接。附图说明图1是一本专利技术光波导膜实施方式的沿宽度方向的剖视图。 图2是示出图l所示光波导膜的制造方法的工序图，(a)示出准备靠模的工 序，(b)示出在靠模的表面涂覆粘接剂组成物的工序，(c)示出使粘接剂组成物硬 化并形成粘接剂层的工序，(d)示出装贴内包层和粘接剂层上表面的工序。图3是示出图1所示光波导膜的制造方法的工序图，(a)示出准备基体材料 的工序，(b)示出在基体材料上形成内包层的工序，(e)示出将芯层形成在内包层 上的工序，(d)示出在内包层上将外包层形成得覆盖芯层的工序，(e)示出去除基 体材料的工序。图4是说明将图l所示光波导膜固定于光基片的方法用的剖视图，(a)示出 从粘接剂层剥下靠模的工序，(b)示出使光波导膜固定于光基片的工序。图5是粘接剂层(实施例l)的下表面的激光显微镜表面观察的图像处理图 (背面图)。图6是粘接剂层(实施例l)的下表面的激光显微镜表面观察的图像处理图 (立体图)。具体实施例方式图1是一本专利技术光波导膜实施方式的沿宽度方向(与纵向正交的方向)的剖 视图，图2是示出图l所示光波导膜的制造方法的工序图，图3是示出图1所 示光波导膜的制造方法的工序图，图4是说明将图l所示光波导膜固定于光基 片的方法用的剖视图。图1中，此光波导膜1形成往纵向延伸的扁带状，具有膜2和粘接剂层3。 膜2为光波导，形成对应于光波导膜1的外形形状。而且，膜2具有作为 包层的内包层4和外包层6、以及被内包层4和外包层6覆盖的芯层5。具体 而言，膜2具有内包层4、形成在内包层4上的芯层5、以及在内包层4上形 成得覆盖芯层5的外包层6。在内包层4的上表面设置多个(3个)芯层5，将其并行配置，往纵向延伸， 并且在宽度方向相互隔开间隔。将芯层5的纵向两端部做成与多个光学元件光 连接用的连接部分。将各芯层5形成剖视截面为实质上矩形。在膜2的单面，具体而言，在内包层4的下表面，设置粘接剂层3。 粘接剂层3将其表面、即粘接剂层3的下表面形成凹凸结构，具体而言， 形成算术平均表面粗糙度为0.1微米Oim) 2.0微米的凹凸结构。而且，粘接剂 层3的下表面的所述平均表面粗糙度以0.1微米 0.5微米为佳，0.15微米 0.3 微米更好。将所述平均表面粗糙度作为用激光显微镜的表面观察得到的表面粗 糙度的算术平均Ra求出。而且，遵照JISB0601 — 1994，求出此算术平均粗糙 度。又，粘接剂层的25'C储存弹性模量为10兆巴(MPa) 100兆巴，以10兆巴 70兆巴为佳，10兆巴 30兆巴更好。将25"储存弹性模量作为以频率1赫的 扭转模式，求出作为使温度按5t: /分(min)从一2(TC升至20(TC的动态粘弹性 测量得到的25'C的扭转储存弹性模量G'。另一方面，将粘接剂层3的背面(具体为粘接剂层的上表面(接触内包层4的 下表面的面))形成平坦状。又，此光波导膜1如图1的假想线所示，根据需要，配备覆盖粘接剂层3 的表面(下表面)的靠模7(后文阐述)。接着，参照图2说明此光波导膜的制造方法。首先，此方法如图2(a)所示，准备靠模7。作为形成靠模7的材料，可列举例如硅、玻璃等陶瓷材料，例如铜、铝、 不锈钢、铁合金等金属材料，例如聚酰亚胺、玻璃—环氧树脂、二甲酯(PET) 等树脂材料。根据凹凸结构容易加工的观点，以举树脂材料为佳，举PET更好。又，靠模7的表面、具体为靠模7的上表面(与接着涂覆的粘接组成物13 接触的面)形成算术平均表面粗糙度为0.1微米 2.0微米的凹凸结构。靠模7 的上表面的算术平均表面粗糙度的较佳范围与上述粘接剂层3的下表面的较佳 范围相同。而且，与上文所述同样地求出所本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光波导膜，其特征在于，配备：　具有包层和被所述包层覆盖的芯层的膜；以及　粘着剂层，该粘着剂层形成在所述膜的至少单面，并在表面具有算术平均粗糙度为０．１微米～２．０微米的凹凸结构，而且频率１赫的扭转模式动态粘弹性测量得到的２５℃的储存弹性模量为１０兆巴～１００兆巴。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：疋田贵巳，程野将行，长崎国夫，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]