本实用新型专利技术公开了一种二极管清洗装置，包括清洗槽，清洗槽底部圆向至少设置有三个支撑柱，支撑柱之间设置有排水口，排水口与清洗槽内部向连通，清洗槽底部中间设置有旋转电机，清洗槽内部设置有旋转框，旋转电机穿过清洗槽与旋转框相连接，旋转框侧面具有若干沥水孔，旋转框顶部设置有支撑架，支撑架底部设置有若干清洗辊，清洗槽顶部旋转连接有盖板，清洗槽侧面设置有若干喷淋清洗进水口。本实用新型专利技术的有益效果是：本实用新型专利技术设计合理，结构简单稳定，实用性强；能够充分均匀的对二极管进行清洗，且有效的提高了二极管的清洗效果，并保证了二极管在清洗后表面的完好性，适合推广使用。
【技术实现步骤摘要】
一种二极管清洗装置
本技术涉及二极管生产制造
，具体为一种二极管清洗装置。
技术介绍
二极管，(英语：Diode)，电子元件当中，一种具有两个电极的装置，只允许电流由单一方向流过。二极管在生产过程中会沾有灰尘，二极管上的灰尘会产生静电，有可能会导致二极管的损坏，所以二极管在生产后需要进行一定的清洗。现有的二极管清洗设备存在清洗效果差、清洗不够均匀等问题，有待改善。
技术实现思路
本技术的目的就在于为了解决现有的二极管清洗效果差、清洗不够均匀的问题而提供一种二极管清洗装置。本技术通过以下技术方案来实现上述目的：一种二极管清洗装置，包括清洗槽，所述清洗槽底部圆向至少设置有三个支撑柱，所述支撑柱之间设置有排水口，所述排水口与所述清洗槽内部向连通，所述清洗槽底部中间设置有旋转电机，所述清洗槽内部设置有旋转框，所述旋转电机穿过所述清洗槽与所述旋转框相连接，所述旋转框侧面具有若干沥水孔，所述旋转框顶部设置有支撑架，所述支撑架底部设置有若干清洗辊，所述清洗槽顶部旋转连接有盖板，所述清洗槽侧面设置有若干喷淋清洗进水口。进一步的，所述排水口处和所述喷淋清洗进水口处都设置有阀门。进一步的，所述旋转电机为伺服电机。进一步的，所述旋转框内表面设置有橡胶保护层。进一步的，所述旋转框顶部设置有水位过高报警器。进一步的，所述支撑架与所述旋转框通过螺栓连接的方式相连接。进一步的，所述清洗辊为橡胶材质制成，所述清洗辊外圆表面设置有清洗毛刷。进一步的，所述盖板顶部设置有推手。本技术的有益效果是：本技术设计合理，结构简单稳定，实用性强；与现有技术相比，本申请中设置的旋转电机能够带动旋转框旋转，同时喷淋清洗进水口对二极管进行喷淋清洗，旋转框旋转能够使得旋转框内的二极管不断变换位置，使得清洗水能够充分与二极管接触清洗，使得旋转框内的二极管清洗的更均匀；设置的旋转电机能够切换不同的旋转速度，使得清洗辊能对旋转的状态的二极管起到一个搅拌的作用，使得清洗辊上设置的毛刷能够清洗到更多的二极管，提高二极管的清洗效果和清洗的均匀度；此外，旋转框内表面设置的橡胶保护层配合橡胶材质制成的清洗辊，能够避免在旋转框和清洗辊对二极管的表面造成损坏；设置的支撑架与旋转框通过螺栓连接的方式相连接，便于后期的维修维护。附图说明图1是本技术的立体结构示意图；图2是本技术的主视图；图3是本技术的俯视图；图4是图3中沿A-A剖开的立体结构示意图。图中：1-清洗槽、2-支撑柱、3-排水口、4-旋转电机、5-旋转框、6-沥水孔、7-支撑架、8-清洗辊、9-盖板、10-喷淋清洗进水口、11-推手。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。结合图1至图4所示的一种二极管清洗装置，包括清洗槽1，清洗槽1底部圆向至少设置有三个支撑柱2，支撑柱2之间设置有排水口3，排水口3与清洗槽1内部向连通，清洗槽1底部中间设置有旋转电机4，清洗槽1内部设置有旋转框5，旋转电机4穿过清洗槽1与旋转框5相连接，旋转框5侧面具有若干沥水孔6，旋转框5顶部设置有支撑架7，支撑架7底部设置有若干清洗辊8，清洗槽1顶部旋转连接有盖板9，清洗槽1侧面设置有若干喷淋清洗进水口10。排水口3处和喷淋清洗进水口10处都设置有阀门，便于二极管清洗以及二极管清洗完成后将清洗槽1中的水排出，同时在旋转框5顶部设置的水位过高报警器报警时，关闭喷淋清洗进水口10处的阀门；旋转电机4为伺服电机，便于控制旋转框5清洗时的旋转速度；旋转框5内表面设置有橡胶保护层，保护二极管表面，避免旋转框5刮伤或者划伤二极管表面；旋转框5顶部设置有水位过高报警器，保证足够的清洗水对二极管清洗，同时避免清洗水过多流出清洗槽1；支撑架7与旋转框5通过螺栓连接的方式相连接，便于后期的维修维护；清洗辊8为橡胶材质制成，清洗辊8外圆表面设置有清洗毛刷，进一步保护二极管的外表面，同时提高二极管的清洗效果；盖板9顶部设置有推手11，便于打开和关闭盖板9。对于本领域技术人员而言，显然本技术不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本技术的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本技术。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本技术的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本技术内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种二极管清洗装置，包括清洗槽(1)，其特征在于：所述清洗槽(1)底部圆向至少设置有三个支撑柱(2)，所述支撑柱(2)之间设置有排水口(3)，所述排水口(3)与所述清洗槽(1)内部向连通，所述清洗槽(1)底部中间设置有旋转电机(4)，所述清洗槽(1)内部设置有旋转框(5)，所述旋转电机(4)穿过所述清洗槽(1)与所述旋转框(5)相连接，所述旋转框(5)侧面具有若干沥水孔(6)，所述旋转框(5)顶部设置有支撑架(7)，所述支撑架(7)底部设置有若干清洗辊(8)，所述清洗槽(1)顶部旋转连接有盖板(9)，所述清洗槽(1)侧面设置有若干喷淋清洗进水口(10)。/n
【技术特征摘要】
1.一种二极管清洗装置，包括清洗槽(1)，其特征在于：所述清洗槽(1)底部圆向至少设置有三个支撑柱(2)，所述支撑柱(2)之间设置有排水口(3)，所述排水口(3)与所述清洗槽(1)内部向连通，所述清洗槽(1)底部中间设置有旋转电机(4)，所述清洗槽(1)内部设置有旋转框(5)，所述旋转电机(4)穿过所述清洗槽(1)与所述旋转框(5)相连接，所述旋转框(5)侧面具有若干沥水孔(6)，所述旋转框(5)顶部设置有支撑架(7)，所述支撑架(7)底部设置有若干清洗辊(8)，所述清洗槽(1)顶部旋转连接有盖板(9)，所述清洗槽(1)侧面设置有若干喷淋清洗进水口(10)。
2.根据权利要求1所述的一种二极管清洗装置，其特征在于：所述排水口(3)处和所述喷淋清洗进水口(10)处都设置有阀门。
3....
【专利技术属性】
技术研发人员：史家兵，曹士中，胡连修，
申请(专利权)人：泗阳县铭鑫电子股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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