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本实用新型公开了一种二极管清洗装置,包括清洗槽,清洗槽底部圆向至少设置有三个支撑柱,支撑柱之间设置有排水口,排水口与清洗槽内部向连通,清洗槽底部中间设置有旋转电机,清洗槽内部设置有旋转框,旋转电机穿过清洗槽与旋转框相连接,旋转框侧面具有若干...该专利属于泗阳县铭鑫电子股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过泗阳县铭鑫电子股份有限公司授权不得商用。
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本实用新型公开了一种二极管清洗装置,包括清洗槽,清洗槽底部圆向至少设置有三个支撑柱,支撑柱之间设置有排水口,排水口与清洗槽内部向连通,清洗槽底部中间设置有旋转电机,清洗槽内部设置有旋转框,旋转电机穿过清洗槽与旋转框相连接,旋转框侧面具有若干...