一种X射线发射系统及检测系统技术方案

技术编号:26594266 阅读:50 留言:0更新日期:2020-12-04 21:15
本发明专利技术涉及一种X射线发射系统及检测系统,属于X射线检测技术领域。其中检测系统包括:舱体和第一探测器阵列,舱体内设有用于发射一束主射线和一束旁束射线的X射线源、用于限定主射线辐射的范围的准直器和用于采集旁束射线的辐射强度的旁束射线强度检测装置;主射线与旁束射线设置夹角;旁束射线强度检测装置测得的旁束射线的辐射强度作为补偿量修正经过待检测物的主射线的辐射强度。本发明专利技术对旁束射线的检测不会削弱主射线的辐射强度;减少旁束射线对环境的泄漏;并且旁束射线、主射线在不同角度上的辐射强度分布相同,旁束射线、主射线受到加速器工况波动的影响相同,因此利用旁束射线的辐射强度对主射线强度修正的更加准确。

【技术实现步骤摘要】
一种X射线发射系统及检测系统
本专利技术涉及一种X射线发射系统及检测系统,属于X射线检测

技术介绍
为了防止安全事故的发生,在人员密集场所或者运输关口等地设置有安检设备。数字辐射成像系统作为一种无损检测技术,广泛应用于安检设备中,包括固定式集装箱检测系统和移动式集装箱检测系统等。数字辐射成像系统是基于某种射线透视成像技术的检查系统,例如:X射线,X射线检测原理是当X射线穿过物质时,因被物质吸收和散射,强度会发生衰减,衰减程度与物质的性质和厚度有关,密度和厚度愈大,衰减愈大。在集装箱中没有物体的地方,透过的X射线强度就大,进而使射线胶片相应处的曝光量增多,暗室处理后呈现出较黑的影像,从而达到检验的目的。X射线是通过射线源发射出的,然而射线源工作状态并不稳定,从震动、高压电路温度变化、到温度变化引起的微波元件尺寸变化都有可能引起射线源工作状态的变化,射线源工作状态的变化直接导致其发射的X射线的强度发生变化,并且这种变化是难以预知的。根据X射线的成像原理可知,当X射线的强度发生变化时,不仅给图像的归一化(normalizat本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种X射线检测系统,其特征在于,包括:/n舱体,舱体内设有X射线源、准直器和旁束射线强度检测装置;/n所述X射线源,用于发射一束主射线和一束旁束射线;所述主射线与旁束射线设置夹角;/n所述准直器,设置在主射线的光路上,用于限定主射线辐射的范围;/n所述旁束射线强度检测装置,设置在旁束射线的光路上,用于采集旁束射线的辐射强度;/n所述舱体上开设一个出口,该出口设置在准直器下游的光路上,用于将主射线射出;/n第一探测器阵列,用于采集主射线的辐射强度;/n所述旁束射线的辐射强度作为补偿量修正经过待检测物的主射线的辐射强度。/n

【技术特征摘要】
1.一种X射线检测系统,其特征在于,包括:
舱体,舱体内设有X射线源、准直器和旁束射线强度检测装置;
所述X射线源,用于发射一束主射线和一束旁束射线;所述主射线与旁束射线设置夹角;
所述准直器,设置在主射线的光路上,用于限定主射线辐射的范围;
所述旁束射线强度检测装置,设置在旁束射线的光路上,用于采集旁束射线的辐射强度;
所述舱体上开设一个出口,该出口设置在准直器下游的光路上,用于将主射线射出;
第一探测器阵列,用于采集主射线的辐射强度;
所述旁束射线的辐射强度作为补偿量修正经过待检测物的主射线的辐射强度。


2.根据权利要求1所述的X射线检测系统,其特征在于,所述旁束射线强度检测装置为单一探测器,用于采集旁束射线中心的辐射强度。


3.根据权利要求1所述的X射线检测系统,其特征在于,所述旁束射线强度检测装置为第二探测器阵列,用于采集旁束射线不同角度...

【专利技术属性】
技术研发人员:王骞王新奎郑振吉
申请(专利权)人:上海瑞示电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:上海;31

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1