掩膜装置以及掩膜制造方法制造方法及图纸

【课题】提供一种掩膜制造装置以及使用该掩膜制造装置的掩膜制造方法，其能够制造出：掩膜图案开口部不会产生变形的，能够抑制掩膜图案开口部的纵方向与横方向之间出现尺寸偏差掩膜。【解决手段】本发明专利技术的掩膜制造装置20以及掩膜制造方法，具有：掩膜片保持部25，配置在掩膜开口部8中，并且具有磁吸盘53，能够在对掩模图案形成区域6的外侧边缘部2a进行磁吸附的吸附状态与非吸附状态之间进行切换；对准摄像头27，用于检测在每个掩膜片2上设置的多个对准孔7相对于玻璃母板26上设置的多个对准记号63的偏移量；粗动平台51以及细动平台52，移动掩膜片保持部25从而对偏移量进行补正；以及作为接合装置的焊接机器人28A、28B，将掩膜图案形成区域6的外侧边缘部2a与掩膜开口部8的外侧边缘部3a接合。

【技术实现步骤摘要】
掩膜装置以及掩膜制造方法
本专利技术涉及掩膜制造装置以及使用该掩膜制造装置的掩膜制造方法。
技术介绍
近年来，有机EL(OrganicElectroLuminescence)作为一种薄型显示设备(Displaydevice)越来越受到关注。有机EL显示设备由于能够自我发光，因此其具有对比度高且可视范围大等优点。这种有机EL显示设备通常是使用具有与发光层等的图案(Pattern)相对应的图案开口部的掩膜(Mask)并通过真空蒸着法来进行制造的。近年来，出于行业需求，有机EL显示设备的尺寸变得越来越大，随之而来就是掩膜的尺寸也越来越大，这就产生出了掩膜容易弯曲这一问题。专利文献1中及公开一种掩膜，其是由：具有掩膜图案形成区域的磁性金属掩膜片(Masksheet)；以及具有被磁化的平坦部的掩膜框(Maskframe)所构成，其中，该平坦部用于吸附掩膜片，该掩膜片具备与掩膜图案形成区域相对应的掩膜开口部，通过将掩膜片磁吸附在掩膜框的平坦部上来构成掩膜。另外，专利文献2中公开了一种掩膜制造装置，其是通过对掩膜片施加一个方向上的张力来消除弯曲，并通过掩膜片保持机构使掩膜片与掩膜框紧密贴合后，再利用激光焊接来实现一体化。几年来，有机EL显示设备用掩膜在实现6G(第6代产品)或6Ghalf(6代半产品)的同时，其尺寸也越来越大。为了应对这种大尺寸化的趋势，将掩膜片分割为多个小型掩膜片(也称为单位掩膜片)，通过在单个掩膜框的规定位置上将多个小型掩膜片进行排列后进行固定从而来实现大尺寸化的技术方案得以被提出。专利文献3中就公开了这样一种掩膜制造方法，其将多片具有图案开口部的长条形的掩膜片进行排列后，通过掩膜框对这些掩膜片施加长度方向上的张力从而来形成掩膜构造体。【先行技术文献】【专利文献1】特开2006-221911号公报【专利文献2】特开2015-1012号公报【专利文献3】特开2003-217850号公报专利文献1中所记载的掩膜是通过将掩膜片磁吸附在掩膜框上来消除掩膜片的弯曲，并利用掩膜片磁吸附在掩膜框后的掩膜来对发光层进行真空蒸着的方法，然而，在这种掩膜中，由于掩膜片与掩膜框之间未被进行机械性的固定，因此在通过将多个掩膜片排列来制造大尺寸的掩膜时，就存在有多个掩膜片之间的相对位置容易产生偏移的问题。另外，在专利文献2以及专利文献3中，同样采用了对掩膜片施加一个方向上的张力来将掩膜片固定在掩膜框上，从而防止掩膜片产生弯曲的方法。但是，对掩膜片施加一个方向上的张力会使掩膜图案开口部产生变形，这样一来就会导致掩膜图案开口部的纵方向与横方向之间出现尺寸偏差，而想要对这种尺寸偏差进行补正则是非常困难的。因此，为了解决上述问题，本专利技术的目的是提供一种掩膜制造装置以及使用该掩膜制造装置的掩膜制造方法，其能够制造出：掩膜图案开口部不会产生变形的，能够抑制掩膜图案开口部的纵方向与横方向之间出现尺寸偏差的，并且多个掩膜片之间的相对位置的偏移较小的，适合于大尺寸化的掩膜。
技术实现思路
【1】本专利技术的掩膜制造装置，将一片或多片掩膜片与掩膜框重叠后进行接合，所述一片或多片掩膜片具有包含掩膜图案开口部的掩膜图案形成区域，并且由磁性金属形成，所述掩膜框具有在与所述掩膜图案形成区域相对应的位置上与所述掩膜图案形成区域宽度相同的，并且在数量上与所述掩膜片相同或更少的掩膜开口部，其特征在于,包括：掩膜片保持部，配置在从平面看所述掩膜开口部的配置位置的内侧下方，并且具有磁吸盘(Magneticchuck)，能够在对所述掩膜片进行磁吸附的吸附状态与非吸附状态之间进行切换；板状且透明的玻璃母板(Glassmaster)，配置在所述掩膜片的配置位置的上方，并且设有多个对准记号；对准摄像头，用于检测所述掩膜片上设置的多个对准孔相对于所述多个对准记号的偏移量；对准平台(Stage)，用于移动所述掩膜片保持部；以及接合装置，将所述掩膜图案形成区域的外侧边缘部与所述掩膜开口部的外侧边缘部接合。根据本专利技术的掩膜制造装置，将掩膜片磁吸附，并且在磁吸附的状态下检测出掩膜片对准记号的偏移量(位置以及姿势)，根据该偏移量，来对掩膜片相对于对准记号的偏移量进行补正，并且在掩膜片保持部对掩膜片保持吸附的状态下将掩膜片与掩膜框接合。通过这样，本专利技术所提供的掩膜制造装置就能够制造出：掩膜图案开口部不会产生变形的，能够抑制掩膜图案开口部的纵方向与横方向之间出现尺寸偏差的，并且多个掩膜片之间的相对位置的偏移较小的，适合于大尺寸化的掩膜。另外，掩膜图案开口部例如是指：在有机EL显示设备中用于对发光层进行真空蒸着的孔。【2】在本专利技术的掩膜制造装置中，理想的情况是：所述磁吸盘具有：具有在对所述掩膜片进行吸附时支撑所述掩膜片的基准面的非磁性材料的盖部；以及配置在该盖部的内侧并且可独立于所述盖部进行升降的第一磁铁，在将所述第一磁铁从所述掩膜片的吸附状态切换为非吸附状态后，所述基准面离开所述掩膜片。在使第一磁铁离开掩膜片时，在从吸附状态切换为非吸附状态的这段时间内，会因第一磁铁的吸附力导致将掩膜片下拉后产生弯曲。因此，只要在通过盖部对掩膜片进行支撑时将第一磁铁切换为非吸附状态，就能够依靠盖部对掩膜片的支撑来防止掩膜片因第一磁铁的吸附力而导致弯曲，从而防止因掩膜片的弯曲而导致掩膜图案开口部产生变形。【3】在本专利技术的掩膜制造装置中，理想的情况是：所述掩膜片保持部具有：在将所述掩膜片接合在所述掩膜框上时，至少在所述接合装置的接合开始位置的附近对所述掩膜片进行吸附并使其与所述掩膜框紧密贴合的磁吸附单元。在接合开始位置上利用磁吸附的手段对掩膜片进行吸附并使其与掩膜框紧密贴合后进行接合，这样就能够在保持对偏移量进行补正后的掩膜片的位置、姿势不变的状态下，切实地来进行接合。【4】在本专利技术的掩膜制造装置中，理想的情况是：所述掩膜框具有与多个所述掩膜片的接合排列相对应设置的多个所述掩膜开口部，所述对准平台具有：将所述掩膜片保持部从一个所述掩膜开口部的配置位置移动至另一个所述掩膜开口部的配置位置的粗动平台；以及根据所述偏移量对所述掩膜片相对于多个所述对准记号的偏移量进行补正的细动平台。在使掩膜片保持部在掩膜框上的多个掩膜开口部之间移动时，通过粗动平台来移动掩膜片保持部，并在对偏移量进行补正时，通过细动平台来对掩膜片保持部的位置、姿势以及高度进行精细地调整。通过这样的构成，即便是在需要对多片掩膜片进行接合的情况下，也能够仅依靠一台掩膜片保持部来予以应对。【5】在本专利技术的掩膜制造装置中，理想的情况是：在被所述掩膜片保持部的多个所述磁吸盘所包围的空间内，配置有用于在所述掩膜片保持部对所述掩膜片进行吸附时平坦地支撑所述掩膜片的支撑板(Backupplate)。掩膜片上的掩膜图案形成区域的厚度为二十μm～数百μm，一旦大尺寸化则容易因自重导致弯曲(也就是下垂)。因此，在吸附掩膜片时通过支撑板来对掩膜图案形成区域的下端面侧进行支撑，就能够在使掩膜片平坦化的状态下对其进行吸附，从而抑制因弯曲而导致的位置偏移和掩膜本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜制造装置，将多片掩膜片与掩膜框重叠后进行接合，所述多片掩膜片具有包含掩膜图案开口部的掩膜图案形成区域，并且由磁性金属形成，所述掩膜框具有在与所述掩膜图案形成区域相对应的位置上与所述掩膜图案形成区域宽度相同的，并且在数量上与所述掩膜片相同或更少的掩膜开口部，其特征在于,包括：/n掩膜片保持部，配置在从平面看所述掩膜开口部的配置位置的内侧下方，并且具有磁吸盘，能够在对所述掩膜片进行磁吸附的吸附状态与非吸附状态之间进行切换；/n板状且透明的玻璃母板，配置在所述掩膜片的配置位置的上方，并且设有多个对准记号；/n对准摄像头，用于检测所述掩膜片上设置的多个对准孔相对于所述多个对准记号的偏移量；/n对准平台，用于移动所述掩膜片保持部；以及/n接合装置，将所述掩膜图案形成区域的外侧边缘部与所述掩膜开口部的外侧边缘部接合。/n

【技术特征摘要】
20170809 JP 2017-1538351.一种掩膜制造装置，将多片掩膜片与掩膜框重叠后进行接合，所述多片掩膜片具有包含掩膜图案开口部的掩膜图案形成区域，并且由磁性金属形成，所述掩膜框具有在与所述掩膜图案形成区域相对应的位置上与所述掩膜图案形成区域宽度相同的，并且在数量上与所述掩膜片相同或更少的掩膜开口部，其特征在于,包括：
掩膜片保持部，配置在从平面看所述掩膜开口部的配置位置的内侧下方，并且具有磁吸盘，能够在对所述掩膜片进行磁吸附的吸附状态与非吸附状态之间进行切换；
板状且透明的玻璃母板，配置在所述掩膜片的配置位置的上方，并且设有多个对准记号；
对准摄像头，用于检测所述掩膜片上设置的多个对准孔相对于所述多个对准记号的偏移量；
对准平台，用于移动所述掩膜片保持部；以及
接合装置，将所述掩膜图案形成区域的外侧边缘部与所述掩膜开口部的外侧边缘部接合。


2.一种掩膜制造装置，将一片或多片掩膜片与掩膜框重叠后进行接合，所述一片或多片掩膜片具有包含掩膜图案开口部的掩膜图案形成区域，并且由磁性金属形成，所述掩膜框具有在与所述掩膜图案形成区域相对应的位置上与所述掩膜图案形成区域宽度相同的，并且在数量上与所述掩膜片相同或更少的掩膜开口部，其特征在于,包括：
掩膜片保持部，配置在从平面看所述掩膜开口部的配置位置的内侧下方，并且具有磁吸盘，能够在对所述掩膜片自身进行磁吸附的吸附状态与非吸附状态之间进行切换；
板状且透明的玻璃母板，配置在所述掩膜片的配置位置的上方，并且设有多个对准记号；
对准摄像头，用于检测所述掩膜片上设置的多个对准孔相对于所述多个对准记号的偏移量；
对准平台，用于移动所述掩膜片保持部；以及
接合装置，将所述掩膜图案形成区域的外侧边缘部与所述掩膜开口部的外侧边缘部接合。


3.根据权利要求1或2所述的掩膜制造装置，其特征在于：
其中，所述磁吸盘具有：具有在对所述掩膜片进行吸附时支撑所述掩膜片的基准面的非磁性材料的盖部；以及配置在该盖部的内侧并且可独立于所述盖部进行升降的第一磁铁，
在将所述第一磁铁从所述掩膜片的吸附状态切换为非吸附状态后，所述基准面离开所述掩膜片。


4.根据权利要求1或2所述的掩膜制造装置，其特征在于：
其中，所述掩膜片保持部具有：在将所述掩膜片接合在所述掩膜框上时，至少在所述接合装置的接合开始位置的附近对所述掩膜片进行吸附并使其与所述掩膜框紧密贴合的磁吸附单元。


5.根据权利要求1或2所述的掩膜制造装置，其特征在于：
其中，所述掩膜框具有与多个所述掩膜片的接合排列相对应设置的多个所述掩膜开口部，
所述对准平台具有：将所述掩膜片保持部从一个所述掩膜开口部的配置位置移动至另一个所述掩膜开口部的配置位置的粗动平台；以及根据所述偏移量对所述掩膜片相对于多个所述对准记号的偏移量进行补正的细动平台。


6.根据权利要求1或2所述的掩膜制造装置，其特征在于：
其中，在被所述掩膜片保持部的多个所述磁吸盘所包围的空间内，配置有用于在所述掩膜片保持部对所述掩膜片进行吸附时平坦地支撑所述掩膜片的支撑板。


7.根据权利要求6所述的掩膜制造装置，其特征在于：
其中，在所述支撑板的与所述掩膜片相反一侧的下方侧，具有可升降的第二磁铁。


8.根据权利要求1或2所述的掩膜制造装置，其特征在于：
其中，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：浅野邦一，福居克幸，土桥美博，
申请(专利权)人：株式会社饭沼GAUGE制作所，
类型：发明
国别省市：日本;JP