【技术实现步骤摘要】
一种新型镀膜掩膜装置
本专利技术涉及新型镀膜掩膜装置,属于镀膜掩膜
技术介绍
变反射率镜因为抗干扰性好,稳定性强等优点在很多方面具有重要的用途。例如用于激光非稳腔内,提高光束质量。然而在现有技术中,变反射率镜在进行制备时,需要在镜片上镀膜,而现有的镀膜装置结构比较复杂,制备过程比较麻烦,导致其成本偏高。
技术实现思路
本专利技术提供了一种新型镀膜掩膜装置,能够解决现有镀膜装置结构复杂,制备过程繁琐,导致其成本较高的问题。本专利技术提供了一种新型镀膜掩膜装置,包括:支撑件,所述支撑件用于支撑待镀膜件;掩膜板,所述掩膜板设置在所述支撑件上方;所述掩膜板上设置有开孔,在垂直于所述掩膜板的方向上,所述开孔在所述支撑件上的投影面积覆盖所述待镀膜件的待镀膜表面的部分区域;驱动结构,用于驱动所述掩膜板绕所述掩膜板的中心轴旋转,以使所述掩膜板每旋转一周,所述开孔在所述支撑件上的投影至少覆盖一次所述待镀膜件的待镀膜表面的全部区域。可选的,所述驱动结构包括转动轴和套设在所述转动轴上的套管;所述转动轴 ...
【技术保护点】
1.一种新型镀膜掩膜装置,其特征在于,包括:/n支撑件,所述支撑件用于支撑待镀膜件;/n掩膜板,所述掩膜板设置在所述支撑件上方;所述掩膜板上设置有开孔,在垂直于所述掩膜板的方向上,所述开孔在所述支撑件上的投影面积覆盖所述待镀膜件的待镀膜表面的部分区域;/n驱动结构,用于驱动所述掩膜板绕所述掩膜板的中心轴旋转,以使所述掩膜板每旋转一周,所述开孔在所述支撑件上的投影至少覆盖一次所述待镀膜件的待镀膜表面的全部区域。/n
【技术特征摘要】
1.一种新型镀膜掩膜装置,其特征在于,包括:
支撑件,所述支撑件用于支撑待镀膜件;
掩膜板,所述掩膜板设置在所述支撑件上方;所述掩膜板上设置有开孔,在垂直于所述掩膜板的方向上,所述开孔在所述支撑件上的投影面积覆盖所述待镀膜件的待镀膜表面的部分区域;
驱动结构,用于驱动所述掩膜板绕所述掩膜板的中心轴旋转,以使所述掩膜板每旋转一周,所述开孔在所述支撑件上的投影至少覆盖一次所述待镀膜件的待镀膜表面的全部区域。
2.根据权利要求1所述的新型镀膜掩膜装置,其特征在于,所述驱动结构包括转动轴和套设在所述转动轴上的套管;所述转动轴可相对于所述套管转动;
所述套管穿过所述支撑件和所述掩膜板的中心,且所述支撑件与所述套管连接,所述掩膜板与所述转动轴连接,所述转动轴可带动所述掩膜板旋转。
3.根据权利要求2所述的新型镀膜掩膜装置,其特征在于,所述装置还包括限位结构,所述限位结构用于限制所述掩膜板在所述转动轴的延伸方向上移动。
4.根据权利要求3所述的新型镀膜掩膜装置,其特征在于,所述限位结构包括连接件和与所述连接件连接的多个凸轮;
所述连接件与所述套管连接;
多个所述凸轮位于所述掩膜板的相对两个表面上,用于限制所述掩膜板在...
【专利技术属性】
技术研发人员:冯新凯,梁万国,陈怀熹,张新彬,李广伟,古克义,黄玉宝,
申请(专利权)人:中国科学院福建物质结构研究所,
类型:发明
国别省市:福建;35
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