用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，清洗设备包括沿清洗方向依次设置的预处理腔室、电化学清洗腔室、等离子清洗腔室、超声清洗腔室，以及用于在相邻两个腔室之间传递所述真空规沉积物清除装置的运输装置。如此设计，依次通过超声预清洗、电化学清洗、等离子清洗和超声清洗四道工序对真空规沉积物清除装置上的沉积物进行清洗，可以高效地清除真空规沉积物清除装置上附着的各种沉积物，实现真空规沉积物清除装置的重复利用；而且，通过运输装置实现真空规沉积物清除装置在四个腔室之间的自动流转，实现了对真空规沉积物清除装置的自动化清洗，提高了清洗效率。

【技术实现步骤摘要】
用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备
本技术涉及真空规清洗设备
，具体涉及一种用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备。
技术介绍
薄膜式真空规是一种利用薄膜作为敏感元件来测量环境压力的真空测量仪器。目前，薄膜式真空规在使用的过程中，随着沉积物的积累，会导致薄膜式真空规的测量性能下降，在沉积物较多的场合，通用做法是定期对真空规重新调零，在无法通过调零修正之后，将真空规淘汰。沉积物不仅严重影响了测量的精度，也大大影响了真空规的使用寿命。在真空规的沉积物防护上，主要通过增加防护装置与气体的接触面积，延长气体在防护装置的停留时间两方面，使得沉积物更多沉积在防护装置中。但这种防护装置安装在真空规内之后不能更换，而且会改变气体流态而影响测量结果，对需要精确控制气体压力的工艺影响严重。拥有沉积物清除装置的薄膜式真空规可以解决这些问题，但长期使用后的沉积物清除装置需要进行定期清洗。目前，并没有合适的清洗设备可以清洗薄膜式真空规的沉积物清除装置。
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供一种用于清洗薄膜式真空规沉积物本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，包括沿清洗方向依次设置的预处理腔室(1)、电化学清洗腔室(2)、等离子清洗腔室(3)、超声清洗腔室(4)，以及用于在相邻两个腔室之间传递所述真空规沉积物清除装置的运输装置(5)；/n所述预处理腔室(1)用于盛放预清洗液，其底部或侧壁上安装有用于向所述预处理腔室(1)内的预清洗液发出超声波以使所述预清洗液对所述真空规沉积物清除装置进行预清洗的第一超声波发生器；/n所述电化学清洗腔室(2)的底部设有电解装置，所述电解装置包括供电电源(211)和电解槽(212)，所述供电电源(211)至少连接有两根端部带有电极夹(214)的导线(213)...

【技术特征摘要】
1.用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，包括沿清洗方向依次设置的预处理腔室(1)、电化学清洗腔室(2)、等离子清洗腔室(3)、超声清洗腔室(4)，以及用于在相邻两个腔室之间传递所述真空规沉积物清除装置的运输装置(5)；
所述预处理腔室(1)用于盛放预清洗液，其底部或侧壁上安装有用于向所述预处理腔室(1)内的预清洗液发出超声波以使所述预清洗液对所述真空规沉积物清除装置进行预清洗的第一超声波发生器；
所述电化学清洗腔室(2)的底部设有电解装置，所述电解装置包括供电电源(211)和电解槽(212)，所述供电电源(211)至少连接有两根端部带有电极夹(214)的导线(213)，其中一根所述导线(213)的电极夹(214)连接有电极棒(215)、另一根所述导线(213)的电极夹(214)用于夹持所述真空规沉积物清除装置；
所述等离子清洗腔室(3)通过控制阀门分别连通有真空泵(31)和供气装置(32)；其上安装有对所述等离子清洗腔室(3)内的气体进行电离以产生用于清洗真空规沉积物清除装置所需的等离子体的等离子发生装置(33)；
所述超声清洗腔室(4)用于盛放清洗液，其底部安装用于向所述预处理腔室(1)内的清洗液发出超声波以使所述清洗液对所述真空规沉积物清除装置进行清洗的第二超声波发生器。


2.根据权利要求1所述的用于清洗薄膜式真空规沉积物清除装置的清洗设备，其特征在于，所述第一超声波发生器包括超声发射源(11)、超声换能器(12)、超声变幅杆(13)及超声辐射器(14)，所述超声发射源(11)连接所述超声换能器(12)，所述超声变幅杆(13)连接在所述超声换能器(12)和所述超声辐射器(14)之间；所述超声辐射器(14)相对所述超声变幅杆(13)的一面直接与预清洗液接触，所述超声辐射器(14)与所述预处理腔室(1)底部盛放预清洗液部分的外形相配。
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【专利技术属性】
技术研发人员：张心强，陈林，
申请(专利权)人：中科九微科技有限公司，
类型：新型
国别省市：四川;51