【技术实现步骤摘要】
基板支架及包括该支架的基板支撑装置
以下的说明涉及一种基板支架及包括该支架的基板支撑装置。
技术介绍
通过在晶片等的基板上进行蒸镀工艺、照片工艺、蚀刻工艺等很多的工艺制造半导体元件。半导体制造的工艺要求去除基板上残留的不必要的薄膜、粒子等异物的清洗工艺。尤其，进行化学机械研磨工艺的基板在表面残留很多异物，因此要求用于残留异物的多个清洗工艺。在基板的清洗工艺中，基板支撑装置支撑基板的边缘，从而使基板旋转。在旋转的基板表面喷射洗涤液，喷射出的洗涤液通过根据基板旋转的离心力从基板表面喷射。另外，基板通过基板支架得以支撑，基板支架通过中心轴得以旋转，在旋转过程中坚固地维持设定位置的同时，为了防止由于冲击造成的基板损伤，支架包括多种材料。以往，与旋转轴连接的部位由具有高硬度的材料形成，与基板接触的部位由相对地硬度低且摩擦力高的材料形成，各部位互相连接从而形成基板支架。但是，当连接材料不同的多个部件时，问题在于，在旋转过程中由于冲击，各部件的连接状态被解除，从而基板的旋转速度不均一，基板的清洗效率低下。<...
【技术保护点】
1.一种基板支架，包括：/n旋转部，其以旋转轴为中心旋转；/n支撑部，其以包裹在所述旋转部的圆周方向上的外面的形式连接于所述旋转部，通过外面支撑基板的边缘；/n第一紧固连接部，其形成于所述旋转部的外面；第二紧固连接部，其形成于与所述旋转部接触的所述支撑部的接触面，与所述第一紧固连接部紧固连接。/n
【技术特征摘要】
20190614 KR 10-2019-00707661.一种基板支架，包括：
旋转部，其以旋转轴为中心旋转；
支撑部，其以包裹在所述旋转部的圆周方向上的外面的形式连接于所述旋转部，通过外面支撑基板的边缘；
第一紧固连接部，其形成于所述旋转部的外面；第二紧固连接部，其形成于与所述旋转部接触的所述支撑部的接触面，与所述第一紧固连接部紧固连接。
2.根据权利要求1所述的基板支架，
所述旋转部包括外面互相段差的下部部分和上部部分，所述下部部分及上部部分之间形成有段差面。
3.根据权利要求2所述的基板支架，
以与所述旋转轴平行的截面为基准，
所述下部部分及上部部分的外面与所述旋转轴平行，
所述段差面可与所述旋转轴垂直。
4.根据权利要求2所述的基板支架，
所述第一紧固连接部形成于所述段差面，所述第二紧固连接部形成于对于所述段差面的所述支撑部的接触部位。
5.根据权利要求2所述的基板支架，
所述第一紧固连接部形成于所述下部部分或上部部分的外面，在对于形成有所述第一紧固连接部的所述旋转部的所述支撑部的接触部位形成。
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【专利技术属性】
技术研发人员：申寅澈，金贤五，
申请(专利权)人：凯斯科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：韩国;KR
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