本实用新型专利技术公开了一种硅片吸取装置,包括进气组件、固定组件和吸取组件，所述固定组件包括吸盘端板、吸盘端块以及连接吸盘端板和吸盘端块的连接杆，所述连接杆将吸取组件与固定组件连接，所述吸取组件包括吸盘，所述吸盘上固设有吸取槽，所述进气组件为吸取组件供气，所述吸取组件通过吸取槽吸取硅片，本实用新型专利技术在吸盘安装板设置内凹型结构的凹台，在吸盘端块设置外凸型结构凸台，两者通过凹台和凸台进行卡接，有利于两者的安装和定位，进一步提高了安装效率，同时在吸盘侧边设置斜槽，对硅片的进入和离开插槽进行导向，避免发生硅片破损，提高了工作质量，本实用新型专利技术通过采用真空设备对硅片进行吸取，降低了人力成本，提高了工作效率。
【技术实现步骤摘要】
一种硅片吸取装置
本技术属于光伏领域，涉及一种硅片吸取装置。
技术介绍
半导体或光伏材料广泛应用于电子、新能源等行业，半导体和光伏材料通常都需要经过加工处理才能够应用到产品上，CVD技术、扩散工艺或氧化工艺是其中的一种处理方式，其中CVD即化学气相沉积，CVD技术目前已经广泛用于半导体或光伏材料加工，常见的加工设备有PECVD、LPCVD、APCVD等，除了CVD之外还有扩散工艺包括磷扩散、硼扩散等。目前行业内已有不少相关的设备，可以针对具体的加工需求来选择相应的设备进行加工，半导体或光伏材料的加工，通常是将片状材料送入炉中在一定温度和压力的条件下进行反应来实现。在加工的过程中，将硅片成对的进行抓取，传统的抓取工艺，抓取效率低，容易造成硅片破损，此设备有效地解决了这种问题。
技术实现思路
本技术为了克服现有技术的不足，提供一种硅片吸取装置。为了实现上述目的，本技术采用以下技术方案：一种硅片吸取装置,其特征在于：包括进气组件、固定组件和吸取组件，所述固定组件包括吸盘端板(404)、吸盘端块(416)以及连接吸盘端板(404)和吸盘端块(416)的连接杆(402)，所述连接杆(402)将吸取组件与固定组件连接，所述吸取组件包括吸盘(403)，所述吸盘(403)上固设有吸取槽(603)，所述进气组件为吸取组件供气，所述吸取组件通过吸取槽(603)吸取硅片。进一步的；所述进气组件包括吸盘安装板(401)，所述吸盘安装板(401)内设置有开口朝下的通气腔，所述通气腔下侧与固定组件固设连接，所述通气腔与固定组件之间设置有密封圈，所述通气腔一侧连通设置有进气孔，所述进气孔连通设置有连管(400)，所述连管(400)与外接真空设备连通，所述外接真空设备为进气组件供能，所述外接真空设备可设置为真空发生器或真空泵。进一步的所述固定组件包括设置于所述吸盘端板(404)和吸盘端块(416)上的连接杆腔(405)，所述连接杆(402)贯穿连接杆腔(405)将吸盘端板(404)和吸盘端块(416)固设连接，所述吸取组件设置于连接杆(402)上。进一步的；所述吸取组件由多组吸盘(403)紧密连接而成，所述吸盘(403)包括固定板(601)和吸取板(602)，所述固定板(601)上固设有连接孔(600)，所述连接孔(600)大小和位置与连接杆腔(405)相配，所述连接杆(402)通过贯穿连接孔(600)将吸取组件固设在固定组件上，每组所述吸盘(403)上的固定板(601)紧密贴合，两组所述吸取板(602)间形成有插槽，设备将硅片吸取进入插槽内。进一步的；所述吸取组件还包括固设于一侧吸盘(403)上的通气槽(607)，所述通气槽(607)向上贯穿固定板(601)，所述通气槽(607)前侧连通设置有封腔(608)，所述封腔(608)上固设有吸盘封板(606)，所述通气槽(607)设置有通孔(604)，另一侧的所述吸盘(403)设置有吸取槽(603)，所述吸取槽(603)设置为圆环形结构，所述通孔(604)与吸取槽(603)连通且位于圆环内。进一步的；所述吸盘安装板(401)下侧固设有凹台(406)，所述凹台(406)设置为内凹型结构，包括水平设置的上边(411)和竖直设置的侧边(410)，吸盘端块(416)上侧固设有凸台(407)，所述凸台(407)为外凸型结构，包括水平设置的对边(412)和竖直设置的对侧边(413)，所述侧边(410)与对侧边(413)相贴，所述上边(411)与对边(412)相贴，所述侧边(410)与对边(412)进行卡接，用于两者间安装和定位。进一步的；所述吸盘端块(416)上固设有开口腔(415)，连接杆腔(405)设置于开口腔(415)上，贯穿所述开口腔(415)上连接杆(402)的长度低于开口腔(415)深度，所述连接杆(402)位于开口腔(415)内。进一步的；所述固定板(601)与吸取板(602)间连接设置有斜台(610)，所述斜台(610)与固定板(601)和吸取板(602)所成角度为钝角，所述吸盘(403)设置为一体成型结构，所述吸取板(602)侧边设置有斜槽(605)，所述斜槽(605)与吸取板(602)所成角度设置为钝角，对硅片的进入和离开插槽进行导向。进一步的；所述吸盘封板(606)深度与封腔(608)深度一致，使所述吸盘封板(606)与所述吸盘(403)处于同一平面。进一步的；所述吸取组件还包括有真空过滤器，所述真空过滤器过滤空气中的杂质。综上所述，本技术在吸盘安装板设置内凹型结构的凹台，在吸盘端块设置外凸型结构凸台，两者通过凹台和凸台进行卡接，有利于两者的安装和定位，进一步提高了安装效率，同时在吸盘侧边设置斜槽，对硅片的进入和离开插槽进行导向，避免发生硅片破损，提高了工作质量。本技术通过采用真空设备对硅片进行吸取，降低了人力成本，提高了工作效率。附图说明图1为本技术装置示意图。图2为图1中A的放大示意图。图3为本技术中吸盘的示意图一。图4为本技术中吸盘的示意图二。图5为本技术中通气槽的示意图。图中标识：连管400、吸盘安装板401、连接杆402、吸盘403、吸盘端板404、连接杆腔405、凹台406、凸台407、侧边410、上边411、对边412、对侧边413、开口腔415、吸盘端块416、连接孔600、固定板601、吸取板602、吸取槽603、通孔604、斜槽605、吸盘封板606、通气槽607、封腔608、斜台610。具体实施方式以下通过特定的具体实例说明本技术的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点与功效。本技术还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本技术的精神下进行各种修饰或改变。需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。需要说明的是，以下实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本技术的基本构想，遂图式中仅显示与本技术中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。本技术实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后、横向、纵向……)仅用于解释在某一特定姿态下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。实施例一：如图1-5所示，一种硅片吸取装置，包括进气组件、固定组件和吸取组件，所述固定组件包括吸盘端板404、吸盘端块416以及连接吸盘端板404和吸盘端块416的连接杆402，所述连接杆402将吸取组件与固定组件连接，所述吸取组件包括吸盘403，所述吸盘403上固设有吸取槽603，所述进气组件为吸取组件供气，所述吸取组件通过吸取槽603吸取硅片。本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种硅片吸取装置,其特征在于：包括进气组件、固定组件和吸取组件，所述固定组件包括吸盘端板(404)、吸盘端块(416)以及连接吸盘端板(404)和吸盘端块(416)的连接杆(402)，所述连接杆(402)将吸取组件与固定组件连接，所述吸取组件包括吸盘(403)，所述吸盘(403)上固设有吸取槽(603)，所述进气组件为吸取组件供气，所述吸取组件通过吸取槽(603)吸取硅片。/n
【技术特征摘要】
1.一种硅片吸取装置,其特征在于：包括进气组件、固定组件和吸取组件，所述固定组件包括吸盘端板(404)、吸盘端块(416)以及连接吸盘端板(404)和吸盘端块(416)的连接杆(402)，所述连接杆(402)将吸取组件与固定组件连接，所述吸取组件包括吸盘(403)，所述吸盘(403)上固设有吸取槽(603)，所述进气组件为吸取组件供气，所述吸取组件通过吸取槽(603)吸取硅片。
2.根据权利要求1所述的一种硅片吸取装置，其特征在于：所述进气组件包括吸盘安装板(401)，所述吸盘安装板(401)内设置有开口朝下的通气腔，所述通气腔下侧与固定组件固设连接，所述通气腔与固定组件之间设置有密封圈，所述通气腔一侧连通设置有进气孔，所述进气孔连通设置有连管(400)，所述连管(400)与外接真空设备连通，所述外接真空设备为进气组件供能，所述外接真空设备可设置为真空发生器或真空泵。
3.根据权利要求1所述的一种硅片吸取装置，其特征在于：所述固定组件包括设置于所述吸盘端板(404)和吸盘端块(416)上的连接杆腔(405)，所述连接杆(402)贯穿连接杆腔(405)将吸盘端板(404)和吸盘端块(416)固设连接，所述吸取组件设置于连接杆(402)上。
4.根据权利要求1所述的一种硅片吸取装置，其特征在于：所述吸取组件由多组吸盘(403)紧密连接而成，所述吸盘(403)包括固定板(601)和吸取板(602)，所述固定板(601)上固设有连接孔(600)，所述连接孔(600)大小和位置与连接杆腔(405)相配，所述连接杆(402)通过贯穿连接孔(600)将吸取组件固设在固定组件上，每组所述吸盘(403)上的固定板(601)紧密贴合，两组所述吸取板(602)间形成有插槽，设备将硅片吸取进入插槽内。
5.根据权利要求1所述的一种硅片吸取装置，其特征在于：所述吸取组件还包括固设于一侧吸盘(403)上的通气槽(607)，所述通气槽(607)向上贯穿固定板(601)，所述通气槽(60...
【专利技术属性】
技术研发人员：丁治祥，沈晓琪，强嘉杰，李亚康，
申请(专利权)人：无锡小强半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。