低RCS测试用金属支架制造技术

技术编号:2655962 阅读:450 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及一种用于雷达性能测试时用于支撑被测对象的支架,具体是一种低RCS测试用金属支架。所说金属支架的横断面呈杏仁形,背向雷达方向的一侧为两边对称的弧形,克服了现有技术中由于横断面两端都为尖棱状而导致的顶端截面面积较小、容易划伤工作人员的问题。本实用新型专利技术尤其适用于低RCS测试。(*该技术在2017年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术属于一种雷达测试用支架,具体涉及一种雷达散射特 性测试时用于支撑被测试对象的金属支架。技术背景雷达散射特性测量过程中,需将被测目标支撑到一定的高度,使 被测目标在空中实现旋转或者仰俯动作,以模仿被测目标在实际工作 中的各种姿态,并通过在相应的方位设置测试点,获得被测试目标的 雷达散射特性。曾用过的支架及支撑技术有绳索吊挂、充气包支架、聚苯乙烯泡 沫支架、介质杆支架、直立的套有劈柱形外罩的金属支架等。但随着 目标特性、目标识别、隐身技术的发展,需要进行辐相测量、低RCS (雷达散射截面)观糧、二维成像测量,这就要求支架自身RCS很 低,且测试中支架的散射信号辐相要稳定,以对背景进行对消处理, 但上述各种支架及支撑技术已经不能满足需要。为此,美国ORBIT/FR公司研制了一种低RCS金属支架(pylon), 该支架横断面呈橄榄形,在高度方向上朝一侧倾斜,且从上到下横断 面面积均匀增大,使用时,通过安装在顶端的转体带动被测目标作相 应的运动,而自身不动。这种支架左右两边的尖棱结构的后向散射很 低,并且强度和稳定性高,支架后向散射辐相稳定,为背景的矢量相 减处理提供了条件,比较适本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低RCS测试用金属支架,它在高度方向上朝一侧倾斜,横断面面积由上而下均匀增加,其特征在于:所说金属支架横断面呈杏仁形,在倾斜方向上的一端为尖点,其余部分为两边对称的弧形。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李清武戴朝明
申请(专利权)人:中国航天科工集团第二研究院二零七所
类型:实用新型
国别省市:11[中国|北京]

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