界面关系判断方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种界面关系判断方法及装置，该方法包括：获取两相晶体结构；根据两相晶体结构选取两相晶面；根据两相晶面计算界面错配度；根据界面错配度判断界面关系。本发明专利技术通过获取两相晶体结构，选取两相晶面，根据错配度计算公式计算错配度，从而判断两相界面关系。

【技术实现步骤摘要】
界面关系判断方法及装置
本专利技术涉及材料结构表征计算领域，尤其涉及一种界面关系判断方法及装置。
技术介绍
界面是不同原子阵列的结合处，广泛存在于金属合金、复合材料、膜材料等，界面关系都对材料加工、性能和应用服役都有着重要影响，可以通过调控界面结构获取性能优异的材料。界面错配度作为最基础的界面结构参数，能够有效表征界面结构情况。界面错配度有不同的计算方法，部分计算方法程序繁琐且计算公式复杂。界面错配度的值往往作为判断界面共格关系的根据。因此，结合界面错配度计算公式，开发简单易行的界面错配度计算程序及界面关系判断，从而简单高效快速地完成界面错配度计算和界面关系判断成为目前需要解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术提供一种界面错配度计算程序及界面关系判断方法及装置，能够基于多种界面错配度计算方法简单高效获得相关界面错配度的值，从而快速准确判断材料界面关系。第一方面，本专利技术提供一种界面关系判断方法，包括：获取两相晶体结构；根据两相晶体结构选取两相晶面；根据两相晶面计算界面错配度；根据本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种界面关系判断方法，其特征在于，包括：/n获取两相晶体结构；/n根据所述两相晶体结构选取两相晶面；/n根据所述两相晶面计算界面错配度；/n根据所述界面错配度判断界面关系。/n

【技术特征摘要】
1.一种界面关系判断方法，其特征在于，包括：
获取两相晶体结构；
根据所述两相晶体结构选取两相晶面；
根据所述两相晶面计算界面错配度；
根据所述界面错配度判断界面关系。


2.根据权利要求1所述的判断方法，其特征在于，还包括：根据所述界面关系获取界面关系数据库。


3.根据权利要求1或2任一所述的判断方法，其特征在于，所述两相包括α相和β相。


4.根据权利要求1或2任一所述的判断方法，其特征在于，所述两相晶面包括两相低指数晶面。


5.根据权利要求1或2任一所述的判断方法，其特征在于，所述根据所述两相晶面计算界面错配度，包括：
根据所述两相晶面选取两相晶向；

【专利技术属性】
技术研发人员：张志波，温丽涛，
申请(专利权)人：广东省材料与加工研究所，
类型：发明
国别省市：广东;44