气体质量流量控制器制造技术

本发明专利技术实施例提供一种气体质量流量控制器，用于检测流经工艺腔室的气体流量，包括相互独立的流量检测模块和流量调节模块，以及控制模块，其中，流量检测模块设置在工艺腔室的进气端，用于检测该工艺腔室的进气端处的气体流量值，并发送至控制模块；流量调节模块设置在工艺腔室的出气端，用于调节工艺腔室的出气端处的气体流量；控制模块用于根据流量检测模块检测到的气体流量值和流量设定值，控制流量调节模块调节工艺腔室的出气端的气体流量，以使流经工艺腔室的气体流量等于流量设定值。本发明专利技术实施例提供的气体质量流量控制器，不仅可以提高控制精度，尤其可以保证温度敏感型气体的流量精度，而且便于拆装和维护。

【技术实现步骤摘要】
气体质量流量控制器
本专利技术涉及气体质量流量控制
，具体地，涉及一种气体质量流量控制器。
技术介绍
质量流量控制器(MassFlowController，以下简称MFC)用于对气体的质量流量进行精密控制，它在半导体和集成电路工业、特种材料学科、化学工业、石油工业、医药、环保和真空等多种领域的科研和生产中有着重要的应用。目前，在一些对温度敏感型气体控制方面，这类对温度敏感型气体在常温下容易分解，或者在温度稍微变化的情况下，气体的分解速率就会产生剧烈变化，该类极不稳定。在使用现有的热式MFC控制上述温度敏感型气体的流量时，由于其流量调节阀自身在工作中会不断地放热，放出的热量往往会对温度敏感型气体的稳定性造成影响；同时，也会对热式MFC自身性能造成干扰。基于以上原因，目前的热式MFC无法对这些温度敏感气体进行精密测量和控制，使得相关工艺无法实现。
技术实现思路
本专利技术实施例旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种气体质量流量控制器，其不仅可以提高控制精度，尤其可以保证温度敏感型气体的流量精度本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种气体质量流量控制器，用于检测流经工艺腔室的气体流量，其特征在于，包括相互独立的流量检测模块和流量调节模块，以及控制模块，其中，所述流量检测模块设置在所述工艺腔室的进气端，用于检测所述工艺腔室的进气端处的气体流量值，并发送至所述控制模块；/n所述流量调节模块设置在所述工艺腔室的出气端，用于调节所述工艺腔室的出气端处的气体流量；/n所述控制模块用于根据所述流量检测模块检测到的所述气体流量值和流量设定值，控制所述流量调节模块调节所述工艺腔室的出气端的气体流量，以使流经所述工艺腔室的气体流量等于所述流量设定值。/n

【技术特征摘要】
1.一种气体质量流量控制器，用于检测流经工艺腔室的气体流量，其特征在于，包括相互独立的流量检测模块和流量调节模块，以及控制模块，其中，所述流量检测模块设置在所述工艺腔室的进气端，用于检测所述工艺腔室的进气端处的气体流量值，并发送至所述控制模块；
所述流量调节模块设置在所述工艺腔室的出气端，用于调节所述工艺腔室的出气端处的气体流量；
所述控制模块用于根据所述流量检测模块检测到的所述气体流量值和流量设定值，控制所述流量调节模块调节所述工艺腔室的出气端的气体流量，以使流经所述工艺腔室的气体流量等于所述流量设定值。


2.根据权利要求1所述的气体质量流量控制器，其特征在于，所述气体质量流量控制器还包括温度调节模块，所述温度调节模块可拆卸地设置在靠近所述流量调节模块的位置处，用于调节所述流量调节模块的温度。


3.根据权利要求2所述的气体质量流量控制器，其特征在于，所述温度调节模块包括热交换腔室及分别与所述热交换腔室的进气端和出气端连接的进流管路和出流管路，其中，所述热交换腔室设置在靠近所述流量调节模块的位置处，用于与所述流量调节模块进行热量交换；所述进流管路用于向所述热交换腔室中输送热交换媒介；所述出流管路用于输出所述热交换腔室中的所述热交换媒介。


4.根据权利要求1-3任意一项所述的气体质量流量控制器，其特征在于，所述流量调节模块包括第一底座和设置在所述第一底座上的流量调节阀；其中，所述第一底座中设置有第一底座通道，所述第一底座通道与所述工艺腔室的出气端连接；
所述流量调节阀用于调节所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王振东，陈正堂，赵迪，
申请(专利权)人：北京七星华创流量计有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11