一种用不透光膜遮盖球面中心的半球状透镜及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种用不透光膜遮盖球面中心的半球状透镜及其制备方法，所述半球状透镜包括至少一个透镜镜体2，所述透镜镜体2一侧的球面上覆盖有不透光膜4″；所述透镜镜体2为：选定标准球透镜2′的一个主光轴，用一个垂直于主光轴的平面切割掉标准球透镜2′另一侧未覆盖有不透光膜4″的部分球面；所述制备方法在透镜一侧球面中心覆盖不透光膜，并在另一侧切割掉部分球面。本发明专利技术的半球状透镜有益于调节焦距、改善光斑的半高宽，具有更长的工作距、更窄(亚半波长)的焦斑中心半高宽和较高的光强度，且容易制备，具有应用在近场、远场超分辨成像、光刻等方面的潜力和巨大的经济效益。

【技术实现步骤摘要】
一种用不透光膜遮盖球面中心的半球状透镜及其制备方法
本专利技术涉及光学领域，特别是涉及一种用不透光膜遮盖球面中心的半球状透镜及其制备方法。
技术介绍
随着人类对微观世界的进一步探索以及半导体器件集成度增大，更多场所需要更高分辨率的光学显微镜，需要低成本、高分辨率的光刻仪器。然而，传统光学透镜受光学衍射极限的限制，再加上实际光源质量、光路系统等影响，传统透镜的分辨率或聚焦斑尺寸很难接近工作波长的一半，一般只能实现约0.7倍工作波长的分辨率。其他高分辨聚焦或成像系统，如扫描电子显微镜，其设备本身成本极高，且工作效率极低；非透镜成像的原子力显微镜，虽然分辨率也极高，但它和扫描电子显微镜一样有相同的劣势。在芯片制备领域，为了得到小线宽的光刻结果，通常选取紫外、深紫外、甚至极紫外光源，并结合液浸传统透镜的方式进一步减小光斑，条件甚为苛刻、设备成本极高；而电子束光刻、聚焦离子束刻蚀由于输出效率低，它们只在科研领域被广泛应用。另一种被广泛采用的光刻、成像方法是基于微球透镜。光波长量级的微球透镜，在平行光沿光轴入射时，可在其阴影侧附近形成具有超衍射极限本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用不透光膜遮盖球面中心的半球状透镜，包括至少一个透镜镜体(2)，其特征在于：所述透镜镜体(2)一侧的球面上覆盖有不透光膜(4″)；/n所述透镜镜体(2)为：选定标准球透镜(2′)的一个主光轴，用一个垂直于所述主光轴的平面切割掉标准球透镜(2′)另一侧未覆盖有不透光膜(4″)的部分球面。/n

【技术特征摘要】
1.一种用不透光膜遮盖球面中心的半球状透镜，包括至少一个透镜镜体(2)，其特征在于：所述透镜镜体(2)一侧的球面上覆盖有不透光膜(4″)；
所述透镜镜体(2)为：选定标准球透镜(2′)的一个主光轴，用一个垂直于所述主光轴的平面切割掉标准球透镜(2′)另一侧未覆盖有不透光膜(4″)的部分球面。


2.根据权利要求1所述的一种用不透光膜遮盖球面中心的半球状透镜，其特征在于：所述不透光膜(4″)的中心靠近或在所述未被切割球面的球面中心；所述半球状透镜沿主光轴方向的尺寸可以小于、等于或大于标准球透镜(2′)的半径。


3.根据权利要求2所述的一种用不透光膜遮盖球面中心的半球状透镜，其特征在于：所述不透光膜(4″)为圆形、方形或其他任意形状。


4.根据权利要求1所述的一种用不透光膜遮盖球面中心的半球状透镜，其特征在于：还包括介电材料膜层(5)，所述透镜镜体(2)浸泡在所述介电材料膜层(5)中。


5.根据权利要求4所述的一种用不透光膜遮盖球面中心的半球状透镜，其特征在于：还包括粘性膜层(6)和第二透明衬底(7)，所述粘性膜层(6)的两侧分别与所述第二透明衬底(7)和介电材料膜层(5)连接。


6.一种用不透光膜遮盖球面中心的半球状透镜制备方法，其特征在于：所述方法包括：
不透光膜覆盖步骤：在透镜镜体(2)一侧的球面上覆盖不透光膜(4″)；
透镜镜体切割步骤：选定标准球透镜(2′)的一个主光轴，用一个垂直于所述主光轴的平面切割掉标准球透镜(2′)另一侧未覆盖有不透光膜的部分球面。


7.根据权利要求6所述的一种用不透光膜遮盖球面中心的半球状透镜制备方...

【专利技术属性】
技术研发人员：王军，刘贤超，谢哲远，周泓希，苟君，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：发明
国别省市：四川;51