基于大气压冷等离子体微加工的人工仿生复眼制备方法技术

技术编号:26416441 阅读:31 留言:0更新日期:2020-11-20 14:11
本发明专利技术提供一种基于大气压冷等离子体微加工的人工仿生复眼制备方法,包括:在衬底上旋涂一层光刻胶;对光刻胶采用大气压冷等离子体射流刻蚀,经刻蚀后在光刻胶的上面得到平面凹陷阵列结构;在刻蚀后得到平面凹陷阵列结构上表面制备脱模隔离层;在隔离层上旋涂一层光学透明材料,光学透明材料经固化后形成透明膜;剥离固化后的透明膜,得到具有平面凸起阵列结构的复眼透镜。本发明专利技术不需要掩模版,经过一次倒模之后,经热压变形便可得到人工仿生复眼结构;与传统的微透镜加工工艺相比,具有工艺简单、成本低以及复制精度高等优势。

【技术实现步骤摘要】
基于大气压冷等离子体微加工的人工仿生复眼制备方法
本专利技术涉及光学仿生领域,具体地,涉及基于大气压冷等离子体微加工的人工仿生复眼制备方法。
技术介绍
自然界中的昆虫复眼具有体积小、视场角宽以及灵敏度极高的特点。根据动物复眼研制的人工仿生复眼在大视场监测、快速目标跟踪以及导弹制导等方面具有的应用潜力。近年来随着微纳米加工技术的发展,对于复眼的制备大都采用飞秒激光和热回流两种方式。其中LiuHetal.在“Fabricationofbioinspiredomnidirectionalandgaplessmicrolensarrayforwidefield-of-viewdetections”AppliedPhysicsLetters,100(13),133701(2012)中描述了飞秒激光加工人工仿生复眼透镜的方法,从中可以看出飞秒激光加工工艺不但设备昂贵,而且在进行单点烧蚀之后还需辅以酸刻蚀可能得到需要的凹陷结构,工艺复杂。JeongK.-H.etal.在“Biologicallyinspiredartificialcompou本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于大气压冷等离子体微加工的人工仿生复眼制备方法,其特征在于,包括:/n在衬底上旋涂一层光刻胶;/n对所述光刻胶采用大气压冷等离子体射流刻蚀,经刻蚀后在所述光刻胶的上面得到平面凹陷阵列结构;/n在得到所述平面凹陷阵列结构上表面制备脱模隔离层;/n在所述脱模隔离层上旋涂一层光学透明材料,所述光学透明材料经固化后形成透明膜;/n剥离固化后的所述透明膜,得到具有平面凸起阵列结构的复眼透镜。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于大气压冷等离子体微加工的人工仿生复眼制备方法,其特征在于,包括:
在衬底上旋涂一层光刻胶;
对所述光刻胶采用大气压冷等离子体射流刻蚀,经刻蚀后在所述光刻胶的上面得到平面凹陷阵列结构;
在得到所述平面凹陷阵列结构上表面制备脱模隔离层;
在所述脱模隔离层上旋涂一层光学透明材料,所述光学透明材料经固化后形成透明膜;
剥离固化后的所述透明膜,得到具有平面凸起阵列结构的复眼透镜。


2.根据权利要求1所述的一种基于大气压冷等离子体微加工的人工仿生复眼制备方法,其特征在于:所述在衬底上旋涂一层光刻胶,其中,
所述衬底为硅;
所述光刻胶为正性光刻胶AZ50XT。


3.根据权利要求1所述的一种基于大气压冷等离子体微加工的人工仿生复眼制备方法,其特征在于:所述对光刻胶采用大气压冷等离子体射流刻蚀,其中,对所述光刻胶的刻蚀深度为所述光刻胶的厚度的1/4-1/3。


4.根据权利要求1所述的一种基于大气压冷等离子体微加工的人工仿生复眼制备方法,其特征在于:所述对光刻胶采用大气压冷等离子体射流刻蚀,其中,所述大气压冷等离子体是在1个标准大气压条件下产生的处于部分电离的非热平衡状态的等离子体;所述大气压冷等离子体的电离度在10-7-10-4之间,且电子温度高于重粒子温度。


5.根据权利要求1所述的一种基于大气压冷等离子体微加工的人工仿生复眼制备方法,其特征在于:所述对光刻胶采用大气压冷等离子体射流刻蚀,其中,大气压冷等离子...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨斌韩晴晴翟玥琦刘景全
申请(专利权)人:上海交通大学
类型:发明
国别省市:上海;31

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