本实用新型专利技术揭示了介质阻挡放电等离子钝化装置包括绝缘托板，其表面形成有至少一限位槽；负电极，设置于绝缘托板上，其与限位槽位置对应且延伸到限位槽的槽底上方；阻挡介质套，位于绝缘托板上方，其下端开口面积满足可覆盖一限位槽的槽口；正电极，设置在阻挡介质套内；移动装置，驱动阻挡介质套移动至限位槽的正上方并保持一定的放电气隙。本方案可以将工件作为负电极，结合可升降的正电极及阻挡介质套，能够有效利用介质阻挡放电等离子原理，在常压条件下在金属工件和阻挡介质套之间持续生成等离子体以直接对金属工件的表面进行清洗并在工件的表面形成钝化层，可以极大的改善工件的耐腐蚀性能，延长工件的使用寿命。
【技术实现步骤摘要】
介质阻挡放电等离子钝化装置
本技术涉及汽车零部件加工设备领域，尤其是介质阻挡放电等离子钝化装置。
技术介绍
当下，对于加工完成的线圈外壳（汽车涡轮增压用线圈外壳，导电金属材质），通常需要清洗后再进行包装，其中一种可行的清洗工艺包括如下过程：超声波清洗——漂洗——工业烘箱烘干。另一种可行的清洗工艺包括如下过程：自动喷淋清洗——超声波清洗——喷淋漂洗——高压风切水。无论是哪种工艺，线圈外壳表面的污染物常常清除不彻底，残留的污染物容易造成产品过早腐蚀生锈。随着其他清洗工艺的发展，例如等离子体清洗，常规的等离子清洗是在真空腔体里，通过射频电源在一定的压力情况下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，以达到清洗目的。但是常规的等离子清洗机的结构复杂，需要复杂的腔体结构，且需要在一定的压力条件下实现，而介质阻挡放电（DielectricBarrierDischarge，DBD）是有绝缘介质插入放电空间的一种非平衡态气体放电又称介质阻挡电晕放电或无声放电，其可以在常压下产生低温等离子体，因此介质阻挡放电等离子设备被研发出来作为材料表面处理的设备。如申请号为2009102496104所揭示的一种常压双介质阻挡扁口型活性自由基清洗系统，其所揭示的结构中，其通过进气通道向高压电极和接地电极之间并通过气流将产生的等离子体吹向待清洗的表面，在这种结构中，等离子体不是直接产生在工件周围，而是必须要通过气源和进气通道形成气流才能有效的使等离子体移动至待清洗表面完成清洗，而这种方式势必会降低等离子体的浓度和增加等离子体的损耗，同时，也需要一定的输送时间，导致清洗效率相对较低，且需要复杂的供气管路和结构。由于吹气通道位于接地电极和高压电极的间隙处，如果要进行批量清洗，就需要在每个接地电极和高压电极处增加吹气通道，因此实现批量清洗的设备成本将进一步增加。
技术实现思路
本技术的目的就是为了解决现有技术中存在的上述问题，提供一种介质阻挡放电等离子钝化装置。本技术的目的通过以下技术方案来实现：介质阻挡放电等离子钝化装置，绝缘托板，所述绝缘托板的表面形成有至少一限位槽；负电极，设置于所述绝缘托板上，其与所述限位槽位置对应且延伸到所述限位槽的槽底上方；阻挡介质套，位于所述绝缘托板上方，所述阻挡介质套的下端开口面积满足可覆盖一所述限位槽的槽口；正电极，设置在所述阻挡介质套内；移动装置，驱动所述阻挡介质套移动至限位槽的正上方并保持一定的放电气隙。优选的，所述的介质阻挡放电等离子钝化装置中，所述绝缘托板架设于机架的一组支座上，一组支座形成一纵截面为倒梯形的限位空间。优选的，所述的介质阻挡放电等离子钝化装置中，所述绝缘托板通过定位装置定位，所述定位装置驱动所述限位槽与所述阻挡介质套共轴。所述定位装置包括相对设置的定位气缸，它们的气缸轴相对且分别连接一推板，所述推板的两侧对称设置有限位件。优选的，所述的介质阻挡放电等离子钝化装置中，所述绝缘托板的底部设置有与负电极连接的导电板。优选的，所述的介质阻挡放电等离子钝化装置中，所述负电极为探针。优选的，所述的介质阻挡放电等离子钝化装置中，每个所述限位槽中对应有至少三个呈等边多边形分布的负电极。优选的，所述的介质阻挡放电等离子钝化装置中，所述阻挡介质套通过螺接到阻挡介质套内的正电极的螺栓连接一绝缘板，所述绝缘板连接驱动其升降的升降气缸。优选的，所述的介质阻挡放电等离子钝化装置中，所述支座为多组，所述升降气缸固定于一支架上，所述支架固定于一驱动其在多组所述支座上方切换的平移装置。优选的，所述的介质阻挡放电等离子钝化装置中，所述正电极包括槽体，所述槽体的槽底设置有位于槽内的凸台，所述阻挡介质套具有与所述正电极相仿的结构。本技术技术方案的优点主要体现在：1、本方案设计精巧，结构简单，在限位槽的底部设置负电极，可以有效的使工件与电源连接，从而使工件成为负电极，结合可升降的正电极及阻挡介质套，能够有效利用介质阻挡放电等离子原理，在常压条件下在金属工件和阻挡介质套之间持续生成等离子体以直接对金属工件的表面进行清洗并在工件的表面形成钝化层，不需要通过气流进行等离子体输送，不会产生等离子浓度的降低和损耗，可以极大的改善工件的耐腐蚀性能，延长工件的使用寿命，使产品的良品率大幅提升。同时，这种结构可以方便的实现批量处理，能够极大的提高加工效率。2、采用等离子清洗技术，可减少在常规处理中的废液排放，污染有机物将被等离子体电离后，以微量气态形式挥发，环境友好性佳。3、本方案的负电极采用探针能够保证负电极与工件导通的稳定性和可靠性，同时采用多个负电极与一个工件配合，即使在部分负电极导电效果不佳时，其他负电极也可以正常导通，从而进一步保证工作的稳定性；另外，多个负电极通过同一个导电板连接放电电源，能够有效的简化布线，提高电连接的速率。4、正电极及阻挡介质套的外形设计，可以有效的满足环形工件内外表面的同时清洗。同时，阻挡介质套采用分体式组装，可方便的实现正电极的包裹及正电极的拆装。5、定位装置的设计可以有效的保证每个限位槽与阻挡介质套共轴，进而有效的使阻挡介质套套装在工件外围并保持设定的放电气隙，保证清洗、钝化的实现。6、多个工位胶体共轴，采用离线处理方式，提高了产品生产工作节拍，有利于改善处理效率。附图说明图1是本技术的端视的纵剖视图；图2是本技术的主视的纵剖视图；图3是本技术的正电极的剖视图;图4是本技术的阻挡介质套的剖视图；图5是图1中A区域的放大图；图6是本技术的端视图；图7是本技术的俯视图；图8是本技术中底座的示意图；图9是本技术中定位装置的限位件的俯视图；图10是本技术的主视图；图11是本技术的工作状态示意图。具体实施方式本技术的目的、优点和特点，将通过下面优选实施例的非限制性说明进行图示和解释。这些实施例仅是应用本技术技术方案的典型范例，凡采取等同替换或者等效变换而形成的技术方案，均落在本技术要求保护的范围之内。在方案的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。并且，在方案的描述中，以操作人员为参照，靠近操作者的方向为近端，远离操作者的方向为远端。下面结合附图对本技术揭示的介质阻挡放电等离子钝化装置进行阐述，下面以用于线圈外壳为例进行说明本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.介质阻挡放电等离子钝化装置，其特征在于：包括/n绝缘托板（1），所述绝缘托板（1）的表面形成有至少一限位槽（11）；/n负电极（2），设置于所述绝缘托板（1）上，其与所述限位槽（11）位置对应且延伸到所述限位槽（11）的槽底上方；/n阻挡介质套（3），位于所述绝缘托板（1）上方，所述阻挡介质套（3）的下端开口面积满足可覆盖一所述限位槽（11）的槽口；/n正电极（4），设置在所述阻挡介质套（3）内；/n移动装置（5），驱动所述阻挡介质套（3）移动至限位槽（11）的正上方并保持放电气隙。/n
【技术特征摘要】
1.介质阻挡放电等离子钝化装置，其特征在于：包括
绝缘托板（1），所述绝缘托板（1）的表面形成有至少一限位槽（11）；
负电极（2），设置于所述绝缘托板（1）上，其与所述限位槽（11）位置对应且延伸到所述限位槽（11）的槽底上方；
阻挡介质套（3），位于所述绝缘托板（1）上方，所述阻挡介质套（3）的下端开口面积满足可覆盖一所述限位槽（11）的槽口；
正电极（4），设置在所述阻挡介质套（3）内；
移动装置（5），驱动所述阻挡介质套（3）移动至限位槽（11）的正上方并保持放电气隙。
2.根据权利要求1所述的介质阻挡放电等离子钝化装置，其特征在于：所述绝缘托板（1）架设于机架（6）上的一组支座（61）上，一组支座（61）形成一纵截面为倒梯形的限位空间。
3.根据权利要求2所述的介质阻挡放电等离子钝化装置，其特征在于：所述绝缘托板（1）通过定位装置（7）定位，所述定位装置（7）驱动所述限位槽（11）与所述阻挡介质套（3）共轴。
4.根据权利要求1所述的介质阻挡放电等离子钝化装置，其特征在于：所述绝缘托板（1）的底部设置...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘鑫培，朱小刚，刘慧敏，
申请(专利权)人：苏州创瑞机电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32
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