一种具有法诺共振效果的克尔效应衬底制造技术

本发明专利技术涉及克尔效应应用领域，具体提供了一种具有法诺共振效果的克尔效应衬底，应用时，入射光倾斜照射微结构，引起横部中水平方向的电荷振动，水平方向的电荷振动引起电荷在第一竖直部和第二竖直部中沿竖直方向振动，产生法诺共振，从而在磁性材料层内产生强电场，这些强电场与磁性材料层作用，增强了衬底的克尔效应。本发明专利技术中，将水平方向的电荷振动诱导为竖直方向的电荷振动，增加了磁性材料层与入射光的作用，具有克尔效应强的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种具有法诺共振效果的克尔效应衬底
本专利技术涉及克尔效应应用领域，具体涉及一种具有法诺共振效果的克尔效应衬底。
技术介绍
克尔效应是指线偏振光入射到磁化的磁性材料上，反射光的偏振面发生旋转的现象。克尔效应在磁光存储、三维成像、生物检测等领域具有巨大的应用潜力。一般地，当磁化的磁性材料直接与入射光相互作用时，所产生的克尔效应弱，不利于克尔效应的应用。
技术实现思路
为解决以上问题，本专利技术提供了一种具有法诺共振效果的克尔效应衬底，包括基底、磁性材料层、微结构，磁性材料层置于基底上，微结构为一维线栅形，微结构按照一维周期排列，微结构的截面包括依次连接的第一竖直部、横部、第二竖直部，第一竖直部和第二竖直部垂直于横部，第一竖直部和第二竖直部位于横部的同侧，第一竖直部和第二竖直部位于磁性材料层内，第一竖直部和第二竖直部沿磁性材料层的法线方向。更进一步地，横部位于磁性材料层的表面。更进一步地，横部至少部分地设置在磁性材料层的内部。更进一步地，第一竖直部和第二竖直部的高度不相等。更进一步地，微结构的材料本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有法诺共振效果的克尔效应衬底，其特征在于，包括：基底、磁性材料层、微结构，所述磁性材料层置于所述基底上，所述微结构为一维线栅形，所述微结构按照一维周期排列，所述微结构的截面包括依次连接的第一竖直部、横部、第二竖直部，所述第一竖直部和所述第二竖直部垂直于所述横部，所述第一竖直部和所述第二竖直部位于所述横部的同侧，所述第一竖直部和所述第二竖直部位于所述磁性材料层内，所述第一竖直部和所述第二竖直部沿所述磁性材料层的法线方向。/n

【技术特征摘要】
1.一种具有法诺共振效果的克尔效应衬底，其特征在于，包括：基底、磁性材料层、微结构，所述磁性材料层置于所述基底上，所述微结构为一维线栅形，所述微结构按照一维周期排列，所述微结构的截面包括依次连接的第一竖直部、横部、第二竖直部，所述第一竖直部和所述第二竖直部垂直于所述横部，所述第一竖直部和所述第二竖直部位于所述横部的同侧，所述第一竖直部和所述第二竖直部位于所述磁性材料层内，所述第一竖直部和所述第二竖直部沿所述磁性材料层的法线方向。


2.如权利要求1所述的具有法诺共振效果的克尔效应衬底，其特征在于：所述横部位于所述磁性材料层的表面。


3.如权利要求1所述的具有法诺共振效果的克尔效应衬底，其特征在于：所述横部至少部分地设置在所述磁性材料层的内部。


4.如权利要求1-3任一项所述的具有法诺共振效果的克尔效应衬底，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：不公告发明人，
申请(专利权)人：中山科立特光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44