【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜机用基片翻转结构
本技术涉及真空镀膜机领域,具体为一种真空镀膜机用基片翻转结构。
技术介绍
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种,主要思路是分成蒸发和溅射两种,而在使用真空镀膜机对基片的双面进行镀膜工作时,需要用到翻转结构。但是,现有的翻转结构存在以下缺点:1、由于需要对基片进行翻转的操作,而翻转结构中的承载结构不便于对多个基片进行快速的限位固定,导致在固定放置基片时费时费力,效率较低。2、在对基片进行翻转工作时,基片可能会受到翻转组件中驱动源所传递过来的震动,导致基片易出现损坏的情况,造成不必要的损失。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种真空镀膜机用基片翻转结构,以解决传统的翻转结构由于需要对基片进行翻转的操作,而翻转结构中的承载结构不便于对多个基片进行快速的限位固定,导致在固定放置基片时费时费力,效率较低,且在对基片进行翻转工作时,基片可能会受到翻转组件中驱动源所 ...
【技术保护点】
1.一种真空镀膜机用基片翻转结构,包括用于进行镀膜工作的主体(1)、用于承载基片的活动式承载结构、用于对活动式承载结构进行辅助翻转工作的翻转组件以及用于对基片进行限位固定的抵接固定结构,其特征在于:所述主体(1)的内部设置有镀膜空腔,所述活动式承载结构包括承载板(2),所述承载板(2)的上表面设置有多个贯穿其上下端的放置槽(3),且所述放置槽(3)呈倒转的凸字型,所述承载板(2)的两侧分别通过连接件与主体(1)的内部两侧活动连接,且所述承载板(2)的一端连接贯穿延伸至主体(1)的外部,所述翻转组件安装于主体(1)的外部一侧,且所述翻转组件的输出端与承载板(2)贯穿延伸至主体 ...
【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜机用基片翻转结构,包括用于进行镀膜工作的主体(1)、用于承载基片的活动式承载结构、用于对活动式承载结构进行辅助翻转工作的翻转组件以及用于对基片进行限位固定的抵接固定结构,其特征在于:所述主体(1)的内部设置有镀膜空腔,所述活动式承载结构包括承载板(2),所述承载板(2)的上表面设置有多个贯穿其上下端的放置槽(3),且所述放置槽(3)呈倒转的凸字型,所述承载板(2)的两侧分别通过连接件与主体(1)的内部两侧活动连接,且所述承载板(2)的一端连接贯穿延伸至主体(1)的外部,所述翻转组件安装于主体(1)的外部一侧,且所述翻转组件的输出端与承载板(2)贯穿延伸至主体(1)外部的一侧固定连接,所述抵接固定结构安装于承载板(2)的上端表面,且所述抵接固定结构靠近于放置槽(3)。
2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机用基片翻转结构,其特征在于:所述翻转组件包括安装板和电机(4),所述安装板垂直固定安装于主体(1)的外部一侧,所述电机(4)固定安装于安装板的上端表面,且所述电机(4)的输出端与承载板(2)贯穿延伸至主体(1)外部的一侧固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机用基片翻转结构,其特征在于:所述抵接固定结构包括安装座(5)、固定板(6)、移动板(7)以及紧固旋钮(8),所述安装座(5)垂直固定安装于承载板(2)的上端表面,所述固定板(6)垂直固定安装与安装座(5)远离于...
【专利技术属性】
技术研发人员:骆海伟,
申请(专利权)人:东莞市伟信真空服务有限公司,
类型:新型
国别省市:广东;44
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