氮化铝掺氮化钪镀膜材料制造技术

本发明专利技术公开一种氮化铝掺氮化钪镀膜材料，具体地说，氮化铝掺氮化钪镀膜材料包括氮化铝掺氮化钪靶材和氮化铝掺氮化钪蒸发镀膜材料，其化学表达式为：(ScN)

【技术实现步骤摘要】
氮化铝掺氮化钪镀膜材料
本专利技术涉及材料领域，尤其涉及一种氮化铝掺氮化钪镀膜材料，包括氮化铝掺氮化钪靶材和氮化铝掺氮化钪蒸发镀膜材料。
技术介绍
氮化铝是一种良好的压电薄膜材料，具有高声波波速、高热导率、低介质损耗、优异的温度稳定性、可与CMOS工艺兼容等优点，是制备高频、高功率及高集成化声表面波(SurfaceAcousticWave，SAW)器件的理想材料。在AlN中掺入ScN制备的氮化铝掺氮化钪(ScN)x(AlN)1-x功能薄膜相比于单一的氮化铝（AlN）功能薄膜，压电系数和机电耦合系数得到有效的提升，可改善AlN作为压电薄膜材料的性能，从而制备出性能更优秀的SAW器件。目前，氮化铝掺氮化钪(ScN)x(AlN)1-x功能薄膜及其制备方法是国内外争相研究的热点，很多研究机构通过研究取得了有益的成果，归结起来，氮化铝掺氮化钪(ScN)x(AlN)1-x功能薄膜的制备基本都是采用反应溅射的方式，具体地说就是，以铝钪金属靶材或铝金属靶材与钪金属靶材为溅射镀膜原料，将铝钪金属靶材或铝金属靶材与钪金属靶材装入反应溅射设备，抽真空后，通入氩气和氮本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氮化铝掺氮化钪镀膜材料，其特征在于：包括氮化铝掺氮化钪靶材和氮化铝掺氮化钪蒸发镀膜材料，其化学表达式为：(ScN)

【技术特征摘要】
1.一种氮化铝掺氮化钪镀膜材料，其特征在于：包括氮化铝掺氮化钪靶材和氮化铝掺氮化钪蒸发镀膜材料，其化学表达式为：(ScN)x(AlN)1-x,其中0.02≤x≤0.8,其纯度大于等于98%且小于99.99%，该材料用于制备氮化铝掺氮化钪薄膜及相关器件。


2.根据权利要求1所述的氮化铝掺氮化钪镀膜材料，其特征在于：氮化铝掺氮化钪镀膜材料的化学表达式为：(ScN)x(AlN)1-x,其中0.02≤x≤0.8，氮化铝掺氮化钪镀...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴文斌，舒小敏，
申请(专利权)人：江西科泰新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江西;36