【技术实现步骤摘要】
一种镀膜材料及其制备方法
本专利技术属于镀膜材料领域，具体涉及一种镀膜材料及其制备方法。
技术介绍
镀膜材料一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点－岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好；镀膜不均匀会大大降低镀膜材料可靠性；因此确保镀膜材料的均匀度，是检验镀膜材料优劣的重要指标；现有的镀膜材料的均匀度，仍有待进一步改进提高；针对上述不足，现需求一种镀膜材料及其制备方法，二氧化硅和二氧化锆可形生成硅酸锆化合物，如此可提高镀膜硬度，进而利于提高镀膜材料的使用寿命；且氟化物会形成均匀应力小的膜层，如此可确保镀膜的均匀度。
技术实现思路
本专利技术的目的提供一种镀膜材料及其制备方法，二氧化硅和二氧化锆可形生成硅酸锆化合物，如此可提高镀膜硬度，进而利于提高镀膜材料的使用寿命；且氟化物会形成均匀应力小的膜层，如此可确保镀膜的均匀度。
【技术保护点】
1.一种镀膜材料，其特征在于：由以下质量份数的物质组成，二氧化硅30至70份、二氧化锆5至20份，氟化镨30至70份、氟化钡20至40份。/n
【技术特征摘要】
1.一种镀膜材料，其特征在于：由以下质量份数的物质组成，二氧化硅30至70份、二氧化锆5至20份，氟化镨30至70份、氟化钡20至40份。
2.根据权利要求1所述的一种镀膜材料，其特征在于：由以下质量份数的物质组成，二氧化硅40至60份、二氧化锆10至15份，氟化镨40至60份、氟化钡25至35份。
3.根据权利要求2所述的一种镀膜材料，其特征在于：由以下质量份数的物质组成，二氧化硅50份、二氧化锆13份，氟化镨50份、氟化钡30份。
4.一种镀膜材料制备方法，其特征在于，具体步骤如下：
S1、先按比例将二氧化硅、二氧化锆，氟...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈珂珩，
申请(专利权)人：苏州瑞康真空科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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