一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺制造技术

本发明专利技术提供热转换效率高、耗能低、不易变形、单次处理量多和镀膜均匀的一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，采用真空式蒸发镀膜机，内腔为真空室，超薄滤光片和玻璃盖板分别安装在套环内的下部和上部，大气压下，将套环装入真空室内的镀膜伞伞面上，在真空室内两侧的坩埚中分别加入五氧化三钛和二氧化硅，用真空泵组将真空室内的空气抽出，启动加热丝，打开离子源，通入氧气和氩气，打开电子枪，离子源发出的离子光束牵引钛离子和硅离子镀在超薄滤光片的镀膜面上，镀完后，真空室冷却10分钟～15分钟。

【技术实现步骤摘要】
一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺
本专利技术属于滤光片
，具体涉及一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺。
技术介绍
滤光片是一种可从复合光中分离出某一波段单色光的光学器件，其被广泛的应用于各种光电产业领域。随着技术的不断发展，光电产品正逐渐向小、薄的方向发展，因此滤光片的厚度也变得越来越薄。而对于超薄滤光片而言，目前的镀膜工艺存在着一定的问题，而对于超薄滤光片而言，由于超薄滤光片的厚度小于0.15mm，在整块超薄滤光片镀膜后，超薄滤光片往往会产生变形，这样就会对滤光片的质量造成不利影响，同时超薄滤光片的单次处理量少，导致超薄滤光片的镀膜成本增加；现有的超薄滤光片的镀膜工艺大都为热电阻式加热法，传统热电阻式加热法的热转换效率低而秏能高，电阻式蒸镀受限于加热温度，多半只从事铝、铬、金、银等少数几种薄膜，对蒸镀材料的选择方面受限较大，镀膜不均匀，从而导致镀膜效果差。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本专利技术提供一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，解决了超薄滤光片镀膜过程中热转换效率低、耗能高、易变形、单次处理量少和镀膜不均匀的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，其特征在于：包括以下步骤：/n步骤一，采用真空式蒸发镀膜机，内腔为真空室(2)，超薄滤光片(1)和玻璃盖板(3)分别安装在套环(4)内的下部和上部，大气压下，将所述套环(4)放置在镀膜伞(5)上的安装槽内，所述超薄滤光片(1)的镀膜面朝伞内，所述玻璃盖板(3)的玻璃面朝伞外；/n步骤二，加镀膜材料，在所述真空室(2)内两侧的坩埚(6)中分别加入五氧化三钛(7)和二氧化硅(8)；/n步骤三，抽真空，用真空泵组将所述真空室(2)内的空气抽出，同时设置所述镀膜伞(5)的回转速度为25～30Rpm；/n步骤四，加热，当所述真空室(2)的真空度达到1.5E-3pa～2....

【技术特征摘要】
1.一种超薄滤光片的蒸发镀膜工艺，其特征在于：包括以下步骤：
步骤一，采用真空式蒸发镀膜机，内腔为真空室(2)，超薄滤光片(1)和玻璃盖板(3)分别安装在套环(4)内的下部和上部，大气压下，将所述套环(4)放置在镀膜伞(5)上的安装槽内，所述超薄滤光片(1)的镀膜面朝伞内，所述玻璃盖板(3)的玻璃面朝伞外；
步骤二，加镀膜材料，在所述真空室(2)内两侧的坩埚(6)中分别加入五氧化三钛(7)和二氧化硅(8)；
步骤三，抽真空，用真空泵组将所述真空室(2)内的空气抽出，同时设置所述镀膜伞(5)的回转速度为25～30Rpm；
步骤四，加热，当所述真空室(2)的真空度达到1.5E-3pa～2.0E-3pa时，启动加热丝(9)；
步骤五，离子轰击，当所述真空室(2)内温度达到80摄氏度～200摄氏度时，打开离子源(10)，同时往所述离子源(10)内通入氧气和氩气，所述氧气和氩气的通入量分别为30sccm～60sccm和8sccm～12sccm，所述离子源(10)发出由氩离子和氧离子组成的离子光束轰击所述超薄滤光片(1)的镀膜面，轰击时间为120～240S；
步骤六，电子蒸镀，打开电子枪(11)，所述电子枪(11)预熔30～60s，所述电子枪(11)的电子束撞击所述五氧化三钛(7)和二氧化硅(8)，所述五氧化三钛(7)和二氧化硅(8)分别解离成钛离子和硅离子，所述五氧化三钛(7)的成膜速率为2.5～3.5A/S，所述二氧化硅(8)的成膜速率为8～12A/S；
步骤七，离子束牵引...

【专利技术属性】
技术研发人员：张威，周常河，刘年生，丁自强，由玉兴，马帅，
申请(专利权)人：江苏星浪光学仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32