【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】透明氧化物层叠膜、透明氧化物层叠膜的制造方法和透明树脂基板
本专利技术涉及透明氧化物层叠膜、透明氧化物层叠膜的制造方法和透明树脂基板。具体而言,涉及具有优异的水蒸气阻隔性和耐化学试剂性的非晶质透明氧化物层叠膜、其制造方法、以及形成了该透明氧化物层叠膜的透明树脂基板。本申请以在日本于2018年3月19日申请的日本专利申请号特愿2018-050675为基础来要求优先权,并将该申请通过参考而援用于本申请。
技术介绍
用氧化硅、氧化铝等金属氧化物膜覆盖塑料基板、膜基板等透明树脂基板的表面而得的水蒸气阻隔性树脂基板被用于防止水蒸气的侵入,防止食品、药品等的劣化的目的的包装用途中。近年来,也利用于液晶显示元件、太阳能电池、电致发光显示元件(EL元件)、量子点(QD)显示元件、量子点膜(QD膜)等。对于电子设备尤其是显示元件中所使用的水蒸气阻隔性透明树脂基板,近年来,随着显示元件的逐渐发展,除了轻量化、大型化这样的要求以外,对于形状自由度、曲面显示等柔性化等也有要求。因此,对于迄今所使用的玻璃基板而言,应对较严格,因此开始 ...
【技术保护点】
1.一种透明氧化物层叠膜,其为将多层含有Zn和Sn的透明氧化物膜层叠而成的透明氧化物层叠膜,/n所述透明氧化物层叠膜由各层中Zn与Sn的金属原子数比不同的非晶质透明氧化物膜构成。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180319 JP 2018-0506751.一种透明氧化物层叠膜,其为将多层含有Zn和Sn的透明氧化物膜层叠而成的透明氧化物层叠膜,
所述透明氧化物层叠膜由各层中Zn与Sn的金属原子数比不同的非晶质透明氧化物膜构成。
2.根据权利要求1所述的透明氧化物层叠膜,至少具有以金属原子数比计Sn/(Zn+Sn)为0.18以上0.29以下的第1透明氧化物膜、和以金属原子数比计Sn/(Zn+Sn)为0.44以上0.90以下的第2透明氧化物膜。
3.根据权利要求2所述的透明氧化物层叠膜,至少任一层的透明氧化物膜含有Ta和Ge,
在所述Zn、Sn、Ta和Ge的原子数比中,
Ta/(Zn+Sn+Ge+Ta)为0.01以下,Ge/(Zn+Sn+Ge+Ta)为0.04以下。
4.根据权利要求2所述的透明氧化物层叠膜,所述透明氧化物层叠膜的膜厚为100nm以下。
5.根据权利要求2所述的透明氧化物层叠膜,所述透明氧化物层叠膜的依据JIS标准的K7129法并通过指定的压差法得到的水蒸气透过率为0.001g/m2/day...
【专利技术属性】
技术研发人员:桑原正和,仁藤茂生,
申请(专利权)人:住友金属矿山株式会社,
类型:发明
国别省市:日本;JP
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