用于使非平面物体曝光的方法、光学部件和曝光系统技术方案

本发明专利技术涉及用于使非平面物体（14）曝光的方法，其中光学部件（41）布置在待曝光的非平面物体（14）上，其中光学部件的轮廓（43，45）以这种方式形成，使得在单个曝光操作期间在用于使非平面物体（14）曝光的处理头（16）或曝光源（20）的光输出与待曝光的非平面物体（14）的表面（33）上的每一点之间生成恒定光路长度。（参见图4）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于使非平面物体曝光的方法、光学部件和曝光系统本专利技术涉及用于使非平面物体曝光的方法、光学部件和具有该光学部件的曝光系统。直接曝光系统用于使物体曝光以便向它们施加照相制版结构。这样的曝光系统的主要任务是使结构光精确地辐射到待曝光的物体上。然而，直接曝光系统具有在高分辨率下有限的景深。因为这个原因，必须使具有不同轮廓高度的待曝光的结构在不同的过程步骤中一个接一个地被曝光，由此在曝光过程之间必须将曝光系统调整到新的高度。这是极其耗时的，并且可能由于在不同的过程步骤中创建的结构的组成而导致质量问题，尤其是在精细结构的情况下。本专利技术的任务是提供用于使非平面物体曝光的方法，以及实现非平面物体的简化曝光的光学部件和具有该光学部件的曝光系统，所述非平面物体即具有带不同轮廓高度的待曝光的表面的物体。根据本专利技术，通过独立专利权利要求的特征来解决此任务。有利的特征是从属权利要求的主题。在用于使非平面物体曝光的这个方法中，光学部件被布置在待曝光的物体的非平面表面上，以这样的方式形成物体的轮廓，使得在单个曝光过程期间在用于使非平面物体曝光的处理头或曝光源的光输本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于使非平面物体（14）曝光的方法，其特征在于：光学部件（41）布置在待曝光的非平面物体（14）上，其轮廓（43，45）以这种方式形成，使得在单个曝光操作期间在用于使非平面物体（14）曝光的处理头（16）或曝光源（20）的光输出与待曝光的非平面物体（14）的表面（33）上的每一点之间生成恒定光路长度。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180209 DE 102018102943.81.用于使非平面物体（14）曝光的方法，其特征在于：光学部件（41）布置在待曝光的非平面物体（14）上，其轮廓（43，45）以这种方式形成，使得在单个曝光操作期间在用于使非平面物体（14）曝光的处理头（16）或曝光源（20）的光输出与待曝光的非平面物体（14）的表面（33）上的每一点之间生成恒定光路长度。


2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：以使第一非平面轮廓（43）处于待曝光的物体（14）的非平面表面（33）上来放置具有第一非平面轮廓（43）和相对的第二非平面轮廓（45）的光学部件（41），使得第一非平面轮廓（43）直接邻近于物体（14）的表面（33）定位。


3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：在光学部件（41）的第二非平面轮廓（45）面向曝光源（20）或处理头（16）并且以阶梯状的方式至少在区段中形成的情况下，控制曝光源（20）或处理头（16）相对于待曝光的非平面物体（14）的横向移动，其中控制适于阶梯（S）的曝光的序列景深。


4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：在光学部件（41）的第二非平面轮廓（45）面向曝光源（20）或处理头（16）并且具有第二非平面轮廓（45）的至少一个连续形成的表面20的情况下，控制曝光源（20）或处理头（16）相对于待曝光的非平面物体（14）的连续横向移动，所述曝光通过预补偿来修改。


5.光学曝光系统（11），具有在支撑物（12）的方向上发射曝光束（17）的曝光源（20），其特征在于：待曝光的非平面物体（14）提供在支撑物（12）上，并且光学部件（41）布置在待曝光的非平面物体（14）上，其中面向物体（14）并且停靠在物体（14）的表面（33）上的光学部件（41）的第一非平面轮廓（43）适于待曝光的物体（14）的表面（33）的形状，并且与第一非平面轮廓（43）相对的光学部件（41）的第二非平面轮廓（45）以这样的方式形成，使得在单个曝光操作期间在处理头（16）或曝光源（20）的光输出与待曝光的非平面物体（14）的...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·帕根，
申请(专利权)人：密华科技有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE