形成边界单元的方法、集成电路以及集成电路装置制造方法及图纸

提供边界单元。确定电路的第一功能单元的边界。沿着所确定的边界的第一部分布置第一多个第一类型伪单元。第一部分在第一方向上延伸。每个第一类型伪单元包括第一预定义尺寸。沿着所确定的边界的第二部分布置第二多个第二类型伪单元。第二部分在第二方向上延伸。每个第二类型伪单元包括第二预定义尺寸。第二预定义尺寸与第一预定义尺寸不同。本发明专利技术的实施例还涉及形成边界单元的方法、集成电路以及集成电路装置。

【技术实现步骤摘要】
形成边界单元的方法、集成电路以及集成电路装置
本专利技术的实施例涉及形成边界单元的方法、集成电路以及集成电路装置。
技术介绍
集成电路一般包括具有复杂的相互关系的数千个组件。这些电路通常使用被称为电子设计自动化(EDA)的高度自动化工艺来设计。EDA始于以硬件描述语言(HDL)提供的功能规范，并且发展为电路设计规范，该电路设计规范包括被称伪单元的基本电路组件、单元的物理布置以及互连单元的线的规范。该单元利用特定的集成电路技术实现逻辑功能或其他电子功能。EDA可以分为一系列阶段，诸如合成、布局、布线等。这些阶段可以涉及从单元库中选择功能单元或IP/块。通常，使用多种单元组合的非常大量的不同电路设计可以满足电路的功能规范。选择为实现期望功能的各个功能单元在平面图中布置单元的集成流程工艺中合并。功能单元可以有不同的边界形状，并且合并工艺可以包括规定单元如何彼此相对布置的许多设计规则和限制，这使集成工艺变得复杂。这样的设计规则，例如，可以规定布局中的禁止或空的空间(垂直和水平方向)、建立间隔要求等。专利
技术实现思路
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【技术保护点】
1.一种形成边界单元的方法，包括：/n确定第一功能单元的边界；/n沿着确定的边界的第一部分布置第一多个第一类型伪单元，其中，所述第一部分在第一方向上延伸，并且其中，每个第一类型伪单元包括第一预定义尺寸；以及/n沿着所述确定的边界的第二部分布置第二多个第二类型伪单元，所述边界的所述第二部分在第二方向上延伸，其中，每个第二类型伪单元包括第二预定义尺寸，并且其中，所述第二预定义尺寸与所述第一预定义尺寸不同。/n

【技术特征摘要】
20190515 US 62/848,290;20190920 US 16/577,4321.一种形成边界单元的方法，包括：
确定第一功能单元的边界；
沿着确定的边界的第一部分布置第一多个第一类型伪单元，其中，所述第一部分在第一方向上延伸，并且其中，每个第一类型伪单元包括第一预定义尺寸；以及
沿着所述确定的边界的第二部分布置第二多个第二类型伪单元，所述边界的所述第二部分在第二方向上延伸，其中，每个第二类型伪单元包括第二预定义尺寸，并且其中，所述第二预定义尺寸与所述第一预定义尺寸不同。


2.根据权利要求1所述的方法，其中，沿着所述确定的边界的所述第一部分布置所述第一类型伪单元包括将所述第一类型伪单元布置在所述确定的边界的内部的预定距离处。


3.根据权利要求1所述的方法，其中，第一类型伪单元基于第一标准伪友好边界单元，并且第二类型伪单元基于第二标准伪友好边界单元。


4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述第一类型伪单元和所述第二类型伪单元分别通过增加所述第一标准伪友好边界单元和所述第二标准伪友好边界单元的高度来进行垂直扩展。


5.根据权利要求1所述的方法，还包括，沿着所述边界的剩余部分布置第三多个第一类型伪单元。


6.根据权利要求5所述的方法，其中，沿着所述边界的剩余部分布置所述第三多个第一类型伪单元包括，沿着未由所述第一多个第一类型伪单元和所述第二多个所述第二类型伪单元覆盖的所述边界在间隙中布置所述第三...

【专利技术属性】
技术研发人员：张育荣，蔡旻原，杨稳儒，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71