【技术实现步骤摘要】
一种铜蚀刻液组合物
本专利技术涉及铜蚀刻液组合物领域，具体为一种铜蚀刻液组合物。
技术介绍
近些年来,由于半导体和显示面板等行业的迅猛发展,对电子化学品不仅具有量的旺盛需求,而且对质的要求也越来越高，蚀刻技术作为半导体、显示面板等必不可少的工艺环节,也在不断地发展进步，其中湿法刻蚀作为最有效、最稳定和最广泛的蚀刻技术被行业长期使用，金属铜具有更加优异的电导性而被广泛作为金属互联线，因此,目前的蚀刻大多都是围绕铜或铜合金而展开，目前市场上该铜蚀刻液主要由双氧水、硫酸和去离子水组成,在该蚀刻液蚀刻过程中,双氧水和金属铜反应形成的氧化铜,硫酸与生成的氧化铜反应生成可溶性的二价铜离子，在该蚀刻过程中生成的二价铜离子一方面由于自身的氧化性会继续对金属铜氧化生成一价铜离子,随着蚀刻液铜离子的不断累积,蚀刻速率会越来越快,变得无法受控；另一方面,铜离子加速双氧水分解,从而缩短蚀刻液寿命,同时制程中液体温度急剧上升,易导致安全事故发生。
技术实现思路
本专利技术的目的在于：为了解决上述的问题，提供一种铜蚀刻液组合物，所述...
【技术保护点】
1.一种铜蚀刻液组合物，其特征在于，所述铜蚀刻液为组合物,包括双氧水、有机酸、络合剂、甲基磺酸和去离子水。/n
【技术特征摘要】
1.一种铜蚀刻液组合物，其特征在于，所述铜蚀刻液为组合物,包括双氧水、有机酸、络合剂、甲基磺酸和去离子水。
2.根据权利要求书1所述的铜蚀刻液组合物，其特征在于：所述铜蚀刻液组合物按重量百分比包括以下组分:
3.根据权利要求书1所述的一种铜蚀刻液组合物，其特征在于：所述有机...
【专利技术属性】
技术研发人员：乔正收，王金城，
申请(专利权)人：镇江润晶高纯化工科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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