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本发明提供了一种铜蚀刻液组合物，所述的铜蚀刻液为组合物,包括双氧水、有机酸、络合剂、甲基磺酸和去离子水，目前市场上的铜蚀刻液主要由双氧水、硫酸和去离子水组成，在该蚀刻液蚀刻过程中，蚀刻快，速度难以控制，生成的铜离子会加速双氧水分解，从而缩短...
该专利属于镇江润晶高纯化工科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过镇江润晶高纯化工科技股份有限公司授权不得商用。

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