用于半导体显示衬底的超声波清洗设备制造技术

本实用新型专利技术属于半导体显示衬底清洗设备技术领域，提供了一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，包括清洗槽、超声波发生装置、清洗治具和驱动机构，超声波发生装置设置在清洗槽内，清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架、两个支撑板和锁定结构，两个支撑板分别设置在安装框架内侧的两端、并与安装框架滑动连接，且两个支撑板的相对的一侧分别设置有相互配合的V形槽，锁定结构用于锁定两个支撑板的位置，驱动机构用于驱动清洗治具做上下往复直线运动。本实用新型专利技术所提供的用于半导体显示衬底的超声波清洗设备清洗效率高。

【技术实现步骤摘要】
用于半导体显示衬底的超声波清洗设备
本技术涉及半导体显示衬底清洗设备
，具体涉及一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备。
技术介绍
半导体显示衬底在生产制造过程中需要经过多道清洗工序，例如化学清洗、超声波清洗以及超高压水洗等。化学清洗是将半导体显示衬底浸泡在化学试剂一段时间，以达到清除半导体显示衬底表面的污垢的清洗方法。但是现有的对于半导体显示衬底的超声波清洗技术，通常是将多个半导体显示衬底堆叠起来，并在相邻的两个半导体显示衬底之间垫上衬垫以便于超声波与半导体衬底接触。利用这种方式清洗半导体显示衬底，清洗时，不仅需要将半导体显示衬底一个一个地在清洗槽中堆叠起来，还需要在相邻的两个半导体显示衬底之间垫上衬垫。而清洗完成后，又需要将半导体显示衬底和衬垫一个一个地从清洗槽中取出，费时费力，最终导致清洗效率较低。
技术实现思路
针对现有技术中的缺陷，本技术的目的是提供一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，以提高清洗效率。为了实现上述目的，本技术提供一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，包括清洗槽和设置在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，包括清洗槽和设置在所述清洗槽内的超声波发生装置，其特征在于：还包括清洗治具和驱动机构，/n所述清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架、两个支撑板和锁定结构，两个所述支撑板分别设置在安装框架内侧的两端、并与所述安装框架滑动连接，且两个所述支撑板的相对的一侧分别设置有相互配合的V形槽，/n所述锁定结构用于锁定两个所述支撑板的位置，/n所述驱动机构用于驱动所述清洗治具做上下往复直线运动。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，包括清洗槽和设置在所述清洗槽内的超声波发生装置，其特征在于：还包括清洗治具和驱动机构，
所述清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架、两个支撑板和锁定结构，两个所述支撑板分别设置在安装框架内侧的两端、并与所述安装框架滑动连接，且两个所述支撑板的相对的一侧分别设置有相互配合的V形槽，
所述锁定结构用于锁定两个所述支撑板的位置，
所述驱动机构用于驱动所述清洗治具做上下往复直线运动。


2.根据权利要求1所述的用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，其特征在于：所述锁定结构包括滑槽、螺孔和螺栓，所述滑槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆雄，王文彬，魏航，陶金，周文，
申请(专利权)人：重庆芯洁科技有限公司，
类型：新型
国别省市：重庆;50