用于半导体显示衬底的超声波清洗设备制造技术

本实用新型专利技术属于半导体显示衬底清洗设备技术领域，提供了一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，包括清洗槽、超声波发生装置、清洗治具和驱动机构，超声波发生装置设置在清洗槽内，清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架、两个支撑板和锁定结构，两个支撑板分别设置在安装框架内侧的两端、并与安装框架滑动连接，且两个支撑板的相对的一侧分别设置有相互配合的V形槽，锁定结构用于锁定两个支撑板的位置，驱动机构用于驱动清洗治具做上下往复直线运动。本实用新型专利技术所提供的用于半导体显示衬底的超声波清洗设备清洗效率高。

【技术实现步骤摘要】
用于半导体显示衬底的超声波清洗设备
本技术涉及半导体显示衬底清洗设备
，具体涉及一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备。
技术介绍
半导体显示衬底在生产制造过程中需要经过多道清洗工序，例如化学清洗、超声波清洗以及超高压水洗等。化学清洗是将半导体显示衬底浸泡在化学试剂一段时间，以达到清除半导体显示衬底表面的污垢的清洗方法。但是现有的对于半导体显示衬底的超声波清洗技术，通常是将多个半导体显示衬底堆叠起来，并在相邻的两个半导体显示衬底之间垫上衬垫以便于超声波与半导体衬底接触。利用这种方式清洗半导体显示衬底，清洗时，不仅需要将半导体显示衬底一个一个地在清洗槽中堆叠起来，还需要在相邻的两个半导体显示衬底之间垫上衬垫。而清洗完成后，又需要将半导体显示衬底和衬垫一个一个地从清洗槽中取出，费时费力，最终导致清洗效率较低。
技术实现思路
针对现有技术中的缺陷，本技术的目的是提供一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，以提高清洗效率。为了实现上述目的，本技术提供一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，包括清洗槽和设置在所述清洗槽内的超声波发生装置，还包括清洗治具和驱动机构，所述清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架、两个支撑板和锁定结构，两个所述支撑板分别设置在安装框架内侧的两端、并与所述安装框架滑动连接，且两个所述支撑板的相对的一侧分别设置有相互配合的V形槽，所述锁定结构用于锁定两个所述支撑板的位置，所述驱动机构用于驱动所述清洗治具做上下往复直线运动。进一步地，所述锁定结构包括滑槽、螺孔和螺栓，所述滑槽设置在所述安装框架上，所述螺孔设置在所述支撑板上，且所述螺孔和所述滑槽相对应，所述螺栓的螺纹端穿过所述滑槽后与所述螺孔螺纹连接。进一步地，所述V形槽的数量为多个，沿纵向依次间隔设置。进一步地，所述驱动机构包括两个丝杠螺母结构和驱动电机，两个所述丝杠螺母结构分别设置在所述清洗治具的两侧，且两个所述丝杠螺母结构的螺母分别与所述清洗治具固定连接，所述驱动电机的动力输出端与两个所述丝杠螺母结构的丝杠的动力输入端连接。本技术的有益效果：1、本技术所提供的一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，通过设置有清洗治具，以便于放置半导体显示衬底，从而提高了清洗效率。2、本技术所提供的一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，通过将支撑板与安装框架设置成滑动连接，从而可以通过改变支撑板之间的距离，进而可以放置不同规格的半导体显示衬底，提高了清洗设备的适应性。同时通过在清洗治具的支撑板上设置V形槽从而可以放置厚度不同的半导体显示衬底，进一步提高了清洗设备的适应性。附图说明为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。在所有附图中，类似的元件或部分一般由类似的附图标记标识。附图中，各元件或部分并不一定按照实际的比例绘制。图1为本技术一实施例提供的用于半导体显示衬底的超声波清洗设备的立体视图；图2为图1所示的用于半导体显示衬底的超声波清洗设备的清洗治具的主视图；图3为图2所示的A-A方向上的剖视图。附图标记：1-清洗槽、2-超声波发生装置、3-清洗治具、31-安装框架、32-支撑板、321-V形槽、33-锁定结构、331-滑槽、332-螺孔、333-螺栓、4-驱动机构、41-丝杠螺母结构、42-驱动电机。具体实施方式下面将结合附图对本技术技术方案的实施例进行详细的描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本技术的技术方案，因此只作为示例，而不能以此来限制本技术的保护范围。需要注意的是，除非另有说明，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本技术所属领域技术人员所理解的通常意义。在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。在本技术的描述中，“多个”的含义是两个以上，除非另有明确具体的限定。在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。如图1-3所示，本技术提供一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，包括清洗槽1、设置在清洗槽1内的超声波发生装置2、清洗治具3和驱动机构4。清洗治具3用于放置半导体显示衬底，包括安装框架31、两个支撑板32和锁定结构33。两个支撑板32分别布置在安装框架31内侧的两端、并与安装框架31滑动连接。两个支撑板32的相对的一侧分别开设有相互配合的V形槽321，V形槽321既可以卡设不同厚度的半导体显示衬底，提高清洗治具3的适应性，同时还可以减少其与半导体显示衬底的接触面积，提高清洗效果。锁定结构33用于锁定两个支撑板32的位置。驱动机构4用于驱动清洗治具3做上下往复直线运动。在一个实施例中，锁定结构33包括滑槽331、螺孔332和螺栓333，滑槽331开设在所述安装框架31上，螺孔332开设在支撑板32上，且螺孔332和滑槽331相对应，螺栓333的螺纹端穿过滑槽331后与螺孔332螺纹连接。当需要改变支撑板32的位置时，拧松螺栓333，使得支撑板32与安装框架31可以相互滑动。当需要固定支撑板32时，拧紧螺栓333。在一个实施例中，V形槽321的数量为多个，沿纵向依次间隔分布。此结构有助于增加清洗治具3中放置的半导体显示衬底的数量，从而提高清洗效率。在一个实施例中，驱动机构4包括两个丝杠螺母结构41和驱动电机42，两个丝杠螺母本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，包括清洗槽和设置在所述清洗槽内的超声波发生装置，其特征在于：还包括清洗治具和驱动机构，/n所述清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架、两个支撑板和锁定结构，两个所述支撑板分别设置在安装框架内侧的两端、并与所述安装框架滑动连接，且两个所述支撑板的相对的一侧分别设置有相互配合的V形槽，/n所述锁定结构用于锁定两个所述支撑板的位置，/n所述驱动机构用于驱动所述清洗治具做上下往复直线运动。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，包括清洗槽和设置在所述清洗槽内的超声波发生装置，其特征在于：还包括清洗治具和驱动机构，
所述清洗治具用于放置半导体显示衬底，包括安装框架、两个支撑板和锁定结构，两个所述支撑板分别设置在安装框架内侧的两端、并与所述安装框架滑动连接，且两个所述支撑板的相对的一侧分别设置有相互配合的V形槽，
所述锁定结构用于锁定两个所述支撑板的位置，
所述驱动机构用于驱动所述清洗治具做上下往复直线运动。


2.根据权利要求1所述的用于半导体显示衬底的超声波清洗设备，其特征在于：所述锁定结构包括滑槽、螺孔和螺栓，所述滑槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆雄，王文彬，魏航，陶金，周文，
申请(专利权)人：重庆芯洁科技有限公司，
类型：新型
国别省市：重庆;50