【技术实现步骤摘要】
一种四氟化碳的二级反应器
本技术涉及一种四氟化碳的二级反应器,属于四氟化碳生产
技术介绍
四氟化碳是目前微电子工业中重要的等离子体蚀刻气体,广泛用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、低温制冷、气体绝缘、泄漏检测剂、印刷电路生产中的去污剂、润滑剂及制动液等方面也有大量应用,在四氟化碳生产中,在一级反应器中反应放出大量的热量,在混合气体导入二级反应器时温度过高会对温度检测器造成损坏,存在安全隐患,另外,混合气体进入二级反应器内与固态含碳原料反应效率过低,影响氟气的反应率,造成材料的浪费。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题克服现有的缺陷,提供一种四氟化碳的二级反应器,采用风冷及水冷的冷却方式快速对混合气体进行降温,避免造成安全隐患,采用隔网将固态含碳原料分隔,使混合气体充分与固态含碳原料接触,提高反应的效率。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种四氟化碳的二级反应器,包括壳体,所述壳体内设有反应腔,所述反应腔内设有隔网,所述隔网上设有固态含碳原料,所述壳体上安装有加热器,且所述加热器设于反应腔外侧,所述壳体顶部安装有冷却机构,且所述冷却机构连通反应腔,所述壳体底部设有过滤机构,且所述过滤机构连通反应腔。进一步的,所述壳体一侧设有加料口,且所述加料口连通反应腔。进一步的,所述冷却机构顶部设有进气口,且所述进气口连通冷却机构。进一步的,所述过滤机构底部设有出气口,且所述出气口连通过滤机构 ...
【技术保护点】
1.一种四氟化碳的二级反应器,包括壳体(1),其特征在于,所述壳体(1)内设有反应腔(2),所述反应腔(2)内设有隔网(3),所述隔网(3)上设有固态含碳原料(4),所述壳体(1)上安装有加热器(5),且所述加热器(5)设于反应腔(2)外侧,所述壳体(1)顶部安装有冷却机构(6),且所述冷却机构(6)连通反应腔(2),所述壳体(1)底部设有过滤机构(7),且所述过滤机构(7)连通反应腔(2)。/n
【技术特征摘要】
1.一种四氟化碳的二级反应器,包括壳体(1),其特征在于,所述壳体(1)内设有反应腔(2),所述反应腔(2)内设有隔网(3),所述隔网(3)上设有固态含碳原料(4),所述壳体(1)上安装有加热器(5),且所述加热器(5)设于反应腔(2)外侧,所述壳体(1)顶部安装有冷却机构(6),且所述冷却机构(6)连通反应腔(2),所述壳体(1)底部设有过滤机构(7),且所述过滤机构(7)连通反应腔(2)。
2.根据权利要求1所述的一种四氟化碳的二级反应器,其特征在于:所述壳体(1)一侧设有加料口(8),且所述加料口(8)连通反应腔(2)。
3.根据权利要求1所述的一种四氟化碳的二级反应器,其特征在于:所述冷却机构(6)顶部设有进气口(9),且所述进气口(9)连通冷却机构(6)。
4.根据权利要求1所述的一种四氟化碳的二级反应器,其特征在于:所述过滤机构(7)底部设有出气口(10),且所述出气口(10)连通过滤机...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘志强,林百志,王凤侠,傅赞荣,
申请(专利权)人:福建德尔科技有限公司,
类型:新型
国别省市:福建;35
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