传导冷却式被动屏蔽MRI磁铁制造技术

技术编号:2635758 阅读:239 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种用于使目标体积(20)成象的磁共振成象(MRI)设备(200)包括:    至少一个产生磁场的主磁铁(230);和    至少一个控制由所述至少一个主磁铁(230)所产生的磁场、使目标体积(20)成象的梯度线圈(50),    其中,所述至少一个梯度线圈(50)所产生的磁场是基本上未被屏蔽的。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术一般涉及磁共振成象(MRI)设备,特别涉及至少包括一个用于控制MRI磁铁所产生磁场的梯度线圈的MRI设备,其中,梯度线圈所产生的磁场基本上未被磁屏蔽。
技术介绍
MRI设备在医学界广泛用做对组织和骨结构之类成象的诊断工具。关于常规MRI设备的描述,可参见美国专利N0.5,225,782,5,285,181和5,304,934,它们的内容全部在此引入作为参考。如图1所示,超导(SC)MRI设备10一般用线圈30在成象目标体积20中产生均匀磁场,而线圈30在液态氦中工作,以使温度大致保持在4°K。液态氦槽需要一个容器40,这个容器是密封真空的,满足美国机械工程师协会(ASME)的压力容器要求;这样一个容器40一般是由焊接起来的铝合金圆桶和端盘构成。热辐射屏蔽(未示出)也是由焊接起来的铝片构成,一般用两个,内装氦容器40。在MRI设备10内腔内梯度线圈50发生电脉冲时,在梯度线圈周围任何一个导电圆桶中所产生的随时间变化的磁通量都激发涡流。这些涡流反过来又产生它们自己的磁场,使所期望的梯度场的强度发生时空上的衰减。今天通常用于MR成像中的磁铁内腔内另一组梯度线圈60(即屏蔽梯度本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:伊万杰洛斯·拉斯卡里斯黄贤睿米歇尔·D·奥格尔
申请(专利权)人:通用电气公司
类型:发明
国别省市:

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