光学器件及其制造方法技术

本发明专利技术提供光学器件及其制造方法。光学器件依次包括由金属氧化物形成的表面，与由金属氧化物形成的表面接触的含有氧化钐的层，和与含有氧化钐的层接触的含有氟化镁的层，从而抑制在由金属氧化物形成的表面上高速率溅射沉积含有氟化镁的层产生的光吸收。

Optical device and its manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
光学器件及其制造方法
本公开内容涉及光学器件及其制造方法。
技术介绍
存在在例如透镜或镜子的光学器件的表面上形成氟化物层例如氟化铝(AlF3)层或氟化镁(MgF2)层以充当减反射层的已知结构。真空蒸镀方法提供例如简单的设备结构和高膜沉积速率的优势，并因此主要通过真空蒸镀方法形成了减反射层。然而，在近年，对于通过溅射法的膜沉积的需求不断提高，该溅射法从再现性、膜偏差控制、低温沉积等的观点而优于真空蒸镀方法。溅射法是通过使用带电粒子例如等离子体溅射处于原子态的材料来形成膜的方法。在通过溅射法的膜沉积中，难以控制溅射材料和基材材料之间的反应并且难以控制由带电粒子造成的基材和膜上的损坏。例如，当通过溅射法在金属氧化物的表面上形成含有氟化物的膜时，金属氧化物被氟还原，并且在相对于与带隙对应的波长更长的波长侧上发生吸收。结果是，光学器件的性能退化。日本专利申请公开号9-291358公开了用于在玻璃基材和氟化物层(MgF2层)之间形成氧化物层的方法，该氧化物层含有SiO2、ZrO2和Al2O3中至少一种，以便抑制在玻璃基材和氟化物层之本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.光学器件，依次包括：/n由金属氧化物形成的表面；/n与该由金属氧化物形成的表面接触的含有氧化钐的层；和/n与该含有氧化钐的层接触的含有氟化镁的层。/n

【技术特征摘要】
20190426 JP 2019-0859611.光学器件，依次包括：
由金属氧化物形成的表面；
与该由金属氧化物形成的表面接触的含有氧化钐的层；和
与该含有氧化钐的层接触的含有氟化镁的层。


2.根据权利要求1所述的光学器件，其中该含有氧化钐的层具有3.0nm或更大且1.0μm或更小的厚度。


3.根据权利要求1所述的光学器件，其中该由金属氧化物形成的表面是通过在基材上叠层多个金属氧化物层而获得的层状结构的表面。


4.根据权利要求3所述的光学器件，其中该层状结构通过交替地叠层折射率为1.35或更大且小于1.75的金属氧化物层和折射率为1.75或更大且2.70或更小的金属氧化物层而获得。


5.根据权利要求4所述的光学器件，其中该折射率为1.35或更大且小于1.75的金属氧化物层含有氧化硅或氧化铝，和该折射率为1.75或更大且2.70或更小的金属氧化物层含有选自以下的成分：氧化锆、氧化钽、氧化铌、和氧化钛。


6.根据权利要求1所述的光学器件，其中该由金属氧化物形成的表面是含有金属氧化物的基材的表面。


7.根据权利要求1所述的光学器件，其中在该含有氧化钐的层的区域中通过X-射线光电子光谱(XPS)分析所获得谱图中在242eV附近和1083eV附近观察到峰、但是在1073eV附近没有观察到峰，所述区域在该含有氧化钐的层和该含有氟化镁的层之间的界面附近。


8.光学器件制造方法，依次...

【专利技术属性】
技术研发人员：秋叶英生，石川恭兵，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP