多腔体超低温磁控溅射镀膜机制造技术

本发明专利技术公开了多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室，所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材，所述溅射腔室的数量为四个，所述冷却辊的直径大于或等于65cm，所述冷却辊的温度低于或等于‑15℃。本多腔体超低温磁控溅射镀膜机中，冷却辊直径大且温度低，大幅度提高了对来料薄膜的冷却能力，使得工艺室内能够设置更多数量的溅射腔室及阴极靶材，从而提高生产效率。

【技术实现步骤摘要】
多腔体超低温磁控溅射镀膜机
本专利技术涉及磁控溅射镀膜设备
，尤其涉及多腔体超低温磁控溅射镀膜机。
技术介绍
磁控溅射镀膜机包括依次连通的放卷室、前处理室、工艺室和收卷室，工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材。现有的磁控溅射镀膜机中由于冷却辊的冷却效果不甚理想，因此，溅射腔室一般只能设置两个，也就是说，现有的磁控溅射镀膜机单次只能镀两种靶材，当需要镀多种靶材时，薄膜需要重复多次经过磁控溅射镀膜机，严重影响生产效率。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是：提供一种生产效率高的多腔体超低温磁控溅射镀膜机。为了解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案为：多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室，所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材，所述溅射腔室的数量为四个，所述冷却辊的直径大于或等于65cm，所述冷却辊的温度低于或等于-15℃。本专利技术的有益效果在于：本多腔体超低温磁控溅射镀膜机中，冷却辊直径大且温度低，大幅度提高了对来料薄膜的冷却能力，使得工艺室内能够设本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室，所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材，其特征在于：所述溅射腔室的数量为四个，所述冷却辊的直径大于或等于65cm，所述冷却辊的温度低于或等于-15℃。/n

【技术特征摘要】
1.多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室，所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材，其特征在于：所述溅射腔室的数量为四个，所述冷却辊的直径大于或等于65cm，所述冷却辊的温度低于或等于-15℃。


2.根据权利要求1所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述冷却辊内设有第一冷却道，所述第一冷却道内设有氟利昂。


3.根据权利要求2所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述冷却辊的材质为不锈钢。


4.根据权利要求1所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述工艺室的数量为两个。


5.根据权利要求4所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机，其特征在于：还包括缓存室，所述缓存室位于两个所述工艺室之间且分别与两个所述工艺室连通。


6.根据权利要求1所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机，其特征在于：相邻的两个所述溅射腔室之间通过挡板隔离，所述挡板内设有第二冷却道，所述第二冷却道内设有冷却介质。


7.根据权利要求1所述的多腔体超低温磁控溅射镀膜机，其特征在于：所述工艺室内...

【专利技术属性】
技术研发人员：王荣福，
申请(专利权)人：深圳市汉嵙新材料技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44