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本发明公开了多腔体超低温磁控溅射镀膜机，包括至少一个工艺室，所述工艺室内设有冷却辊和溅射腔室，溅射腔室内设有阴极靶材，所述溅射腔室的数量为四个，所述冷却辊的直径大于或等于65cm，所述冷却辊的温度低于或等于‑15℃。本多腔体超低温磁控溅射镀...
该专利属于深圳市汉嵙新材料技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市汉嵙新材料技术有限公司授权不得商用。

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