靶材溅射镀膜设备自动除尘上料装置制造方法及图纸

技术编号:26280827 阅读:27 留言:0更新日期:2020-11-10 18:49
本实用新型专利技术提供靶材溅射镀膜设备自动除尘上料装置,属于除尘上料技术领域,该靶材溅射镀膜设备自动除尘上料装置包括固定座,所述固定座顶部外壁开有放置槽,且固定座靠近放置槽的顶部圆周外壁通过密封条固定有透明防尘罩,所述透明防尘罩顶部圆周外壁焊接有连接片,连接片顶部外壁开有限位孔,固定座靠近透明防尘罩两侧的顶部外壁均开有卡槽,所述固定座顶部一侧外壁通过铰链合页铰接有密封盖,且密封盖底部两侧外壁均焊接有卡条,密封盖顶部圆心外壁开有吸附孔,吸附孔的圆周内壁刻有等距离分布的螺纹。本实用新型专利技术有利于对靶材表面的灰尘进行清除,提高了靶材溅射镀膜的质量,同时提高了靶材固定于放置槽内的稳固效果。

【技术实现步骤摘要】
靶材溅射镀膜设备自动除尘上料装置
本技术属于除尘上料
,具体涉及靶材溅射镀膜设备自动除尘上料装置。
技术介绍
在现有技术中,溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上,使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。经过检索发现,在授权公告号为CN109536899A的中国专利中公开了一种新型CIGS电极用钛合金复合靶材镀膜及其制备方法,制备该镀膜的钛合金复合靶材包括钛钠复合靶材和钛钾复合靶材中的至少一种,所述钛钠复合靶材和钛钾复合靶材分别为钛粉末与钛钠氧化物粉末、钛粉末与钛钾氧化物粉末通过热压成型工艺制成。在制得钛钠复合靶材和钛钾复合靶材基础上,分别以钛钠复合靶材和钛钾复合靶材为材料。<br>但是上述技术方本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.靶材溅射镀膜设备自动除尘上料装置,其特征在于:包括固定座(1),所述固定座(1)顶部外壁开有放置槽(7),且固定座(1)靠近放置槽(7)的顶部圆周外壁通过密封条固定有透明防尘罩(2),所述透明防尘罩(2)顶部圆周外壁焊接有连接片(10),连接片(10)顶部外壁开有限位孔,固定座(1)靠近透明防尘罩(2)两侧的顶部外壁均开有卡槽(3),所述固定座(1)顶部一侧外壁通过铰链合页铰接有密封盖(5),且密封盖(5)底部两侧外壁均焊接有卡条(4),密封盖(5)顶部圆心外壁开有吸附孔(6),吸附孔(6)的圆周内壁刻有等距离分布的螺纹。/n

【技术特征摘要】
1.靶材溅射镀膜设备自动除尘上料装置,其特征在于:包括固定座(1),所述固定座(1)顶部外壁开有放置槽(7),且固定座(1)靠近放置槽(7)的顶部圆周外壁通过密封条固定有透明防尘罩(2),所述透明防尘罩(2)顶部圆周外壁焊接有连接片(10),连接片(10)顶部外壁开有限位孔,固定座(1)靠近透明防尘罩(2)两侧的顶部外壁均开有卡槽(3),所述固定座(1)顶部一侧外壁通过铰链合页铰接有密封盖(5),且密封盖(5)底部两侧外壁均焊接有卡条(4),密封盖(5)顶部圆心外壁开有吸附孔(6),吸附孔(6)的圆周内壁刻有等距离分布的螺纹。


2.根据权利要求1所述的靶材溅射镀膜设备自动除尘上料装置,其特征在于:所述放置槽(7)内部放置有靶材(16),且放置槽(7)圆周内壁开有四个第二稳固槽(9)。

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【专利技术属性】
技术研发人员:杨海成向青波米县稳
申请(专利权)人:东莞耀捷镀膜科技有限公司
类型:新型
国别省市:广东;44

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